ULSI衬底硅单晶片清洗技术现况与展望

• 作者: 张孟强 王宏杰
• 来源期刊: 中国科技投资
• 关键词: ULSI 硅衬底 清洗方法
• 年，卷（期）: 2017,（14）
• 所属期刊栏目: 理论广角
• 页码范围: 371
• 页数: 1页
• 字数: 2145字
• 语种: 中文

摘要

本文主要针对ULSI清洗技术进行了探讨,首先谈到了这种硅衬底片清洗的重要性,然后详细介绍了世界上被广泛采用的清洗方法,主要包括湿法、干法以及新型的超声技术和激光技术等等.然后进行理论分析,讨论适用于大规模应用的清洗技术,并且指出了在未来的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张孟强		2	0	0.0	0.0
2	王宏杰		2	0	0.0	0.0