300mm硅单晶的生长技术

• 作者: 吴志强 周旗钢 屠海令 常青 张果虎 方锋 秦福
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 300mm 硅单晶 热屏 磁场
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 技术进展
• 页码范围: 383-386
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 1902字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.03.028

摘要

讨论了300mm硅单晶的工艺控制，分析了拉晶工艺、热屏及磁场对晶体质量的影响。合理的工艺参数是拉制无位错单晶的前提，热屏和磁场的应用有效地控制了晶体的氧含量和微缺陷。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	屠海令		42	224	8.0	12.0
2	周旗钢		35	176	8.0	12.0
3	吴志强		6	40	3.0	6.0
4	常青		7	29	3.0	5.0
5	张果虎		5	26	3.0	5.0
6	方锋		4	11	2.0	3.0
7	秦福		2	2	1.0	1.0