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摘要:
介绍了基于共享Buffer技术的SOI(绝缘体上硅)LIGBT和PLDMOS,相对于传统工艺可以节约2层光刻板和2步工艺流程.主要通过研究在器件漏区的缓冲层特性,对器件特性影响明显.通过实验和仿真结果对比,共享Buffer技术的器件通过工艺和版图优化后能达到原有器件的表现性能.
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内容分析
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文献信息
篇名 基于共享Buffer的LIGBT和PLDMOS器件研究
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 绝缘体上硅 LIGBT PLDMOS 共享Buffer
年,卷(期) 2018,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 46-48
页数 3页 分类号 TN305
字数 868字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张恩阳 6 13 2.0 3.0
2 黄勇 3 0 0.0 0.0
3 孟令锋 1 0 0.0 0.0
4 代高强 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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2018(0)
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研究主题发展历程
节点文献
绝缘体上硅
LIGBT
PLDMOS
共享Buffer
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
论文1v1指导