基于Faster R-CNN的光刻热点检测

• 作者: 史峥 张培勇 郭求是
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 可制造性设计 在线难例挖掘 软性非极大值抑制
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 产品与可靠性
• 页码范围: 834-838,845
• 页数: 6页
• 分类号: TN406
• 语种: 中文
• DOI: 10.13911/j.cnki.1004-3365.180067

摘要

光刻热点检测是集成电路可制造性设计的一项重要环节.已有研究将卷积神经网络应用于光刻热点的检测,但在卷积运算的重复性、检测结果准确度等方面存在较多问题.为了解决上述问题,提出一种基于Faster R-CNN并结合在线难例挖掘和软性非极大值抑制的光刻热点检测算法.采用ICCAD 2012 Contest的版图基准作为验证载体.实验结果表明,该算法能有效提高检测的精度和效率,平均检测耗时为0.6 h/mm2,召回率为96.1％,精确率可达40.3％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史峥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	51	176	7.0	11.0
2	张培勇	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	17	46	3.0	6.0
3	郭求是	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	1	0	0.0	0.0