柔性衬底直流磁控溅射ZnO基高性能透明导电薄膜的制备及性能研究

• 作者: 张大伟 张涛 洪瑞金 陶春先
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 透明导电薄膜 光电特性
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 77-84
• 页数: 8页
• 分类号: TU73
• 字数: 3568字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2018.02.014

摘要

采用直流磁控溅射法,以柔性PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)为基底,通过参数优化以求在室温下制备高性能ZnO/Ag/ZnO多层薄膜.实验中,使用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等仪器分别对ZnO/Ag/ZnO多层薄膜的微观结构、表面形貌、透过率及方块电阻进行测试及表征.结果表明,随着Ag层厚度增加,薄膜方块电阻急剧下降,通过改变ZnO层厚度,可有效调节薄膜光学性能,随着ZnO层厚度增加,可见光区平均透过率先增大后减小.引入品质因子FTC作为评价指标可知,当依次沉积ZnO、Ag、ZnO厚度为50 nm、8nm、50 nm时,薄膜光电性能最佳,其在可见光平均透过率为82.3％、方块电阻为2.8 Ω/□、禁带宽度为3.332 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	117	391	11.0	15.0
5	张涛	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	23	69	5.0	7.0
6	陶春先	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	21	38	3.0	5.0
10	洪瑞金	上海理工大学光电信息与计算机工程学院	19	27	2.0	4.0