脉冲激光沉积制备MgxNi1-xO合金薄膜的表征及光学性质研究

• 作者: 俞健 唐永健 孟刚 王朝阳 王雪敏
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 合金薄膜 光学带隙 退火处理
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光孝
• 页码范围: 14-17
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44|O469
• 字数: 3264字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201830.180068

摘要

应用脉冲激光沉积(PLD)技术,固定脉冲激光能量密度为5 J/cm2,调节薄膜生长基底温度为300～700℃,制备了系列MgxNi1-xO合金薄膜.通过透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微术(AFM)等表征分析手段,详细分析了薄膜的成分及组织,研究了退火处理对样品的影响.通过UV-Vis分光光度计研究了透射光谱,结合理论计算了光学带隙宽度.结果表明:薄膜由非晶及多晶构成,紫外吸收边约为290 nm,接近日盲波段的上限;衬底温度为500℃、激光脉冲能量密度为5 J/cm2时生长的薄膜在短波部分吸收强烈,而长波部分几乎不吸收,有利于紫外探测;退火处理改善了样品表面质量,但不能有效拓宽光学带隙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
2	唐永健	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	10	20	3.0	4.0
3	王雪敏	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	16	26	4.0	5.0
4	孟刚	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	0	0.0	0.0
5	俞健	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	0	0.0	0.0