NiO薄膜的脉冲激光沉积及其结构和光学特性研究

• 作者: 余亮 文亚南 李琳 梁齐 董燕
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: NiO 多晶薄膜 宽禁带半导体 脉冲激光沉积 透射率 择优取向
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2|O484
• 字数: 3118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2013.08.006

摘要

利用脉冲激光沉积法在ITO玻璃衬底上制备了NiO薄膜,利用XRD、AFM对样品的晶体结构和表面形貌进行了表征,并对其透射光谱进行了测试,研究了衬底温度及脉冲激光能量对所制NiO薄膜的结构、形貌和光学特性的影响.结果表明:在脉冲激光能量为180mJ、衬底温度为600～700℃条件下所制备的样品为沿(111)晶面择优取向生长的多晶NiO薄膜,薄膜结晶质量良好,表面颗粒排列均匀,可见光透射率较高,禁带宽度为3.40～3.47eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
2	李琳	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	41	313	11.0	15.0
3	董燕	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	19	3.0	4.0
4	余亮	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	30	4.0	5.0
5	文亚南	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	8	21	3.0	4.0