脉冲激光沉积制备NiO(111)外延薄膜及其结构研究

• 作者: 朱俊 李言荣 贝力 赵丹 郑润华
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: NiO薄膜 激光脉冲沉积法 外延匹配 蓝宝石衬底
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 分类号: TN384
• 字数: 2195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.07.012

摘要

采用脉冲激光沉积法(PLD)在具有六方纤锌矿结构的蓝宝石衬底上制备了NiO外延薄膜,研究了沉积温度、氧分压对薄膜结构和形貌的影响.在650℃、20 Pa氧分压的条件下制得了高结晶质量的单晶NiO薄膜.高能电子衍射分析发现,该NiO薄膜沿A12O3[11-20]方向入射的衍射图像为清晰的斑点,说明NiO薄膜的生长模式为岛状模式,薄膜与衬底的外延匹配关系为:(111)[11-2]NiO11(0001)[11-20]A1203.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李言荣	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	115	824	15.0	21.0
2	朱俊	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	34	102	5.0	6.0
3	赵丹	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	2	13	2.0	2.0
4	贝力	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	5	1.0	1.0
5	郑润华	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	1	5	1.0	1.0