用于磁控溅射膜的一种剥离技术

• 作者: 何西良 刘娅 徐阳 李磊 杨正兵 蒋欣
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 剥离工艺 双层胶 倒梯形 薄膜体声波谐振器(FBAR)
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 页码范围: 331-333,336
• 页数: 4页
• 分类号: TN65
• 字数: 2434字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11977/j.issn.1004-2474.2018.03.006

摘要

为了解决磁控溅射膜的剥离问题,该文研制了一种新型的双层胶剥离技术.通过调整双层光刻胶的坚膜时间、坚膜温度和显影时间,制备出好的光刻胶倒梯形形貌,得到磁控溅射膜较好的剥离效果.为薄膜体声波谐振器(FBAR)的研制提供了有意义的指导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐阳	中国电子科技集团公司第二十六研究所	21	32	3.0	4.0
2	李磊	中国电子科技集团公司第二十六研究所	31	118	5.0	10.0
3	杨正兵	中国电子科技集团公司第二十六研究所	5	14	3.0	3.0
4	刘娅	中国电子科技集团公司第二十六研究所	4	4	1.0	2.0
5	蒋欣	中国电子科技集团公司第二十六研究所	13	25	3.0	3.0
6	何西良	中国电子科技集团公司第二十六研究所	4	4	1.0	2.0