磁控溅射工艺参数对碳膜表面形貌及浸润性的影响

• 作者: 侯大寅 徐文正 徐珍珍 杨莉 王孝锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳膜 磁控溅射 表面粗糙度 均匀性 静态接触角
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 页码范围: 344-351
• 页数: 8页
• 分类号: TQ127.1
• 字数: 5758字
• 语种: 中文

摘要

为了分析磁控溅射工艺对碳膜表面形貌及浸润性的影响,在室温下采用磁控溅射技术在硅片表面沉积碳膜,并利用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)、静态接触角测量仪对所得碳膜进行表征.结果表明:随着溅射功率的提高,碳膜表面粗糙度先减小后增大,致密性逐渐改善,静态接触角先增大后减小;随着溅射时间的延长,碳膜的表面粗糙度逐渐增加,均匀性在一定的溅射时间内逐渐改善,静态接触角呈现先减小后增大再减小的趋势;随着溅射压强的增加,碳膜表面粗糙度先增大后减小,致密性在过高的溅射压强下会变差,静态接触角先减小后增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐文正	安徽工程大学纺织服装学院	18	41	4.0	5.0
2	侯大寅	安徽工程大学纺织服装学院	43	171	7.0	10.0
3	杨莉	安徽工程大学纺织服装学院	40	136	6.0	9.0
4	徐珍珍	安徽工程大学纺织服装学院	62	87	5.0	6.0
5	王孝锋	安徽工程大学纺织服装学院	5	1	1.0	1.0