磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响

• 作者: 傅宇东 刘勇 王刚 郭在在 闫牧夫
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 NdFeB薄膜 工艺参数 表面形貌
• 年，卷（期）: 2009,（z1）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: TM28
• 字数: 2180字
• 语种: 中文

摘要

本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究.采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜.之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关.并根据实验结果给出优化的NdFeB薄膜制备工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	230	2830	30.0	42.0
2	刘勇	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	120	1324	19.0	28.0
3	闫牧夫	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	54	249	10.0	12.0
4	傅宇东	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	25	116	7.0	10.0
8	郭在在	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	2	9	1.0	2.0