直流磁控溅射制备铝薄膜工艺参数

• 作者: 杨栋华
• 来源期刊: 重庆工学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 铝薄膜 工艺参数
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 69-71,86
• 页数: 4页
• 分类号: TG113
• 字数: 2715字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8425-B.2006.08.020

摘要

采用直流磁控溅射法,在硅基片上制备铝薄膜.用扫描电子显微镜 (SEM)、X-射线衍射仪(XRD)等对薄膜的表面形貌和结构进行了分析,研究了不同工艺参数对薄膜表面形貌的影响,分析了制备铝薄膜的影响因素.分析结果表明该薄膜为纯铝薄膜,并且晶粒很小.实验得到制备铝薄膜的工艺参数为:本底真空度4.0×10-4 Pa、工作真空度1.7 Pa、氩气流量20 cm3/s、工作电压300 V、工作电流1A.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨栋华	重庆工学院材料科学与工程学院	5	35	3.0	5.0