体效应对超深亚微米SOI器件总剂量效应的影响

• 作者: 姚帅 崔江维 席善学 赵京昊 郑齐文 郭旗 陆妩 魏莹
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 总剂量效应 绝缘体上硅 体效应 浅沟槽隔离
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 1065-1069
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 3869字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0372-2112.2019.05.013

摘要

研究体偏置效应对超深亚微米绝缘体上硅(SOI,Silicon-on-insulator)器件总剂量效应的影响.在TG偏置下,辐照130nm PD(部分耗尽,partially depleted)SOI NMOSFET(N型金属-氧化物半导体场效应晶体管,n-type Met-al-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)器件,监测辐照前后在不同体偏压下器件的电学参数.短沟道器件受到总剂量辐照影响更敏感,且宽长比越大,辐射导致的器件损伤亦更大.在辐射一定剂量后,部分耗尽器件将转变为全耗尽器件,并且可以观察到辐射诱导的耦合效应.对于10μm/0.35μm的器件,辐照后出现了明显的阈值电压漂移和大的泄漏电流.辐照前体偏压为负时的转移特性曲线相比于体电压为零时发生了正向漂移.当体电压Vb=-1.1V时部分耗尽器件变为全耗尽器件,|Vb|的继续增加无法导致耗尽区宽度的继续增加,说明体区负偏压已经无法实现耗尽区宽度的调制,因此器件的转移特性曲线也没有出现类似辐照前的正向漂移.