超深亚微米SOI总剂量效应泄漏电流模型

• 作者: 何承发 姚帅 崔江维 席善学 郑齐文 郭旗 陆妩 魏莹
• 来源期刊: 太赫兹科学与电子信息学报
• 学科: 工学
• 关键词: 总辐照剂量 绝缘体上硅 模型 浅沟槽隔离
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 微电子、微系统与物理电子学
• 页码范围: 1107-1111
• 页数: 5页
• 分类号: TN43
• 字数: 2517字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11805/TKYDA201906.1107

摘要

总剂量辐射效应会导致绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SOI MOSFET)器件的阈值电压漂移、泄漏电流增大等退化特性.浅沟槽隔离(STI)漏电是器件退化的主要因素,会形成漏极到源极的寄生晶体管.针对130 nm部分耗尽(PD)SOI NMOSFET器件的总剂量辐射退化特性,建立了一个包含总剂量辐射效应的通用模拟电路仿真器(SPICE)模型.在BSIM SOI标准工艺集约模型的基础上,增加了STI寄生晶体管泄漏电流模型,并考虑了辐射陷阱电荷引起寄生晶体管的等效栅宽和栅氧厚度的变化.通过与不同漏压下、不同宽长比的器件退化特性的实验结果对比,该模型能够准确反映器件辐射前后的漏电流特性变化,为器件的抗辐射设计提供参考依据.