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摘要:
通过对全耗尽SOI器件硅膜中的纵向电位分布采用准三阶近似,求解亚阈区的二维泊松方程,得到全耗尽器件的表面势公式;通过引入新的参数,对公式进行修正,建立深亚微米全耗尽器件的表面势模型,能够很好地描述漏感应势垒降低效应.在此基础上,建立了亚阈漏电流模型,它能够很好的描述亚阈区的完整漏电流特性,模型计算结果与二维器件模拟软件MEDICI的模拟结果相符.
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文献信息
篇名 深亚微米FD-SOI器件亚阈模型
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 表面势 漏感应势垒降低效应 亚阈区模型 全耗尽MOS器件
年,卷(期) 2001,(7) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 908-914
页数 7页 分类号 TN386
字数 4751字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.07.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邵志标 42 180 9.0 10.0
2 唐天同 49 145 6.0 9.0
3 赵文魁 5 22 3.0 4.0
4 程彬杰 7 16 3.0 3.0
5 沈文正 4 9 2.0 2.0
传播情况
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2014(1)
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研究主题发展历程
节点文献
表面势
漏感应势垒降低效应
亚阈区模型
全耗尽MOS器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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