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EUV光刻胶专利分析及技术热点综述
EUV光刻胶专利分析及技术热点综述
作者:
冯刚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
EUV光刻胶
专利分析
技术热点
摘要:
分析了全球EUV光刻胶领域专利申请态势、主要申请人和技术分布,重点介绍了基体树脂和光产酸剂结构改进方面的技术热点,并展示了有价值的专利技术信息.
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篇名
EUV光刻胶专利分析及技术热点综述
来源期刊
现代化工
学科
工学
关键词
EUV光刻胶
专利分析
技术热点
年,卷(期)
2019,(7)
所属期刊栏目
专论与评述
研究方向
页码范围
11-16,18
页数
7页
分类号
TN305.7
字数
5766字
语种
中文
DOI
10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.07.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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被引次数
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G指数
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冯刚
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12
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技术热点
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研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
现代化工
主办单位:
中国化工信息中心
出版周期:
月刊
ISSN:
0253-4320
CN:
11-2172/TQ
开本:
大16开
出版地:
北京安外小关街53号
邮发代号:
082-67
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
9409
总下载数(次)
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