磁控溅射制备Mo电极实验设计与研究

• 作者: 佘引 尚正国 李东玲 陈宇昕
• 来源期刊: 实验科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 半高宽 单一变量 摇摆曲线
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 实验技术
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 2557字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12179/1672-4550.20180226

摘要

采用脉冲直流反应磁控溅射的方式在硅衬底上制备钼(Mo)电极.通过分析单一变量(如工艺真空度、气体流量等工艺参数)对Mo电极性能的影响,结合相关性实验设计规则,探究影响Mo电极性能的关键因素,优化Mo电极制备工艺,对Mo电极薄膜的性能进行表征.实验结果表明:该实验过程简单直观、效率高,能使学生对半导体加工工艺的实验设计及工艺调控有直观体验,可满足微电子及仪器科学与技术等专业实验课程需要.同时,实验成果也可直接应用于微机电系统(MEMS)压电器件、大面积集成电路、软X射线反射元件等多个领域中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尚正国	重庆大学光电工程学院	10	33	4.0	5.0
2	李东玲	重庆大学光电工程学院	7	21	4.0	4.0
3	佘引	重庆大学光电工程学院	3	3	1.0	1.0
4	陈宇昕	重庆大学光电工程学院	2	0	0.0	0.0