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摘要:
AlGaN is the material of choice for high-efficiency deep UV light sources,which is the only alternative technology to replace mercury lamps for water purification and disinfection.At present,however,Al Ga N-based mid-and deep UV LEDs exhibit very low efficiency.Here,we report a detailed investigation of the epitaxy and characterization of LEDs utilizing an Al Ga N/Ga N/Al Ga N tunnel junction structure,operating at~265 nm,which have the potential to break the efficiency bottleneck of deep UV photonics.A thin Ga N layer was incorporated between p~+and n~+-Al Ga N to reduce the tunneling barrier.By optimizing the thickness of the Ga N layer and thickness of the top n-Al Ga N contact layer,we demonstrate Al Ga N deep UV LEDs with a maximum external quantum efficiency of 11%and wall-plug efficiency of 7.6%for direct on-wafer measurement.It is also observed that the devices exhibit severe efficiency droop under low current densities,which is explained by the low hole mobility,due to the hole hopping conduction in the Mg impurity band and the resulting electron overflow.
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文献信息
篇名 High-efficiency AlGaN/GaN/AlGaN tunnel junction ultraviolet light-emitting diodes
来源期刊 光子学研究:英文版 学科 工学
关键词 ALGAN LIGHT ULTRAVIOLET
年,卷(期) 2020,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 331-337
页数 7页 分类号 TN3
字数 语种
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ALGAN
LIGHT
ULTRAVIOLET
研究起点
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
光子学研究:英文版
月刊
2327-9125
31-2126/O4
上海市嘉定区清河路390号
出版文献量(篇)
216
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