磁控溅射法制备的MoOx薄膜材料特性

• 作者: 刘飞 房伟华 王效坤
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 低反射率 磁控溅射 MoOx 窄边框
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 211-218
• 页数: 8页
• 分类号: TB31|TB34|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20203503.0211

摘要

MoOx材料因其较低的反射率,在窄边框液晶显示技术等领域是一种理想的材料.本文利用磁控溅射法在玻璃基板上制备MoOx薄膜,并在MoOx薄膜上沉积不同的金属层,采用不同的方法研究MoOx薄膜及其搭配金属层的特性.测试结果表明:MoOx和玻璃基板的粘附性较好,无须打底膜可在玻璃基板上直接沉积;MoOx和Al及Cu的粘附效果优于Mo及MTD等Mo合金;MoOx薄膜的方块电阻值较大,搭配金属层时可忽略不计;MoOx厚度对搭配金属膜的反射率及色差影响很大,而金属层厚度影响较小.对于采用MoOx作低反材料的工艺,可以根据MoOx材料的特性选择搭配不同的金属层,在满足反射率等要求的基础上,可通过调整MoOx层厚度来调整产品的色差,以满足客户的颜色喜好需求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王效坤		3	0	0.0	0.0
2	房伟华		3	0	0.0	0.0
3	刘飞		4	2	1.0	1.0