磁控溅射法制备柔性大尺寸ITO薄膜的研究

• 作者: 朱小宁 李浩洋 李海涛 王璐 田占元 霍林智 高阳 魏立帅
• 来源期刊: 陕西煤炭
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 大尺寸ITO薄膜 光电性能
• 年，卷（期）: 2020,（z1）
• 所属期刊栏目: 问题探讨
• 页码范围: 83-87
• 页数: 5页
• 分类号: TB383|O484.4
• 字数: 3134字
• 语种: 中文

摘要

为了获得适合手机触摸屏使用的ITO薄膜,寻找制备ITO薄膜的最佳工艺条件,研究了溅射功率、基底走速、氧气流量、氩气流量等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明:当溅射功率为3.6 kW,基底走速为1.2 m/min,氧气流量为10.35 sccm,氩气流量为125 sccm时,所制得的ITO薄膜方阻最接近目标方阻180Ω/□,在400～780 nm可见光范围内,平均透过率达到最高值85.17％.通过采用大型卷对卷磁控溅射镀膜机制备柔性大尺寸ITO薄膜,实现了性能优良的ITO薄膜中试试验,为ITO薄膜的工业化量产提供了一条途径.