磁控溅射法制备As-S玻璃薄膜

• 作者: 张林 赵光华 顾少轩
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 As-S玻璃 薄膜
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 84-86,105
• 页数: 4页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2161字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.01.019

摘要

采用磁控溅射法在ITO导电玻璃上制备As-S玻璃薄膜,采用XRD、透可见-红外性能、扫描电镜、XPS等现代测试手段,研究薄膜的结晶形态、光学性质和成分.结果发现,利用磁控溅射方法得到了透过率较高、光学质量优良、没有明显的缺陷的As-S硫系玻璃薄膜,XPS光电子能谱结果显示薄膜As/S摩尔比为0.686,大于设计组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾少轩	武汉理工大学材料科学与工程学院	52	253	9.0	13.0
2	张林		1	0	0.0	0.0