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CMP在线光学终点检测算法研究及应用
CMP在线光学终点检测算法研究及应用
作者:
杨元元
杨旭
史霄
孟晓云
杨师
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
化学机械抛光
在线终点检测
窗口检测
算法
特征点
摘要:
介绍了化学机械抛光(CMP)中表面膜层为金属和非金属晶圆的在线终点检测原理.研究了窗口检测算法,实时检测光强变化趋势,抓取趋势特征点,从控制抛光过程,实现CMP在线终点检测.实验结果表明,检测算法可达到预期的检测精度,能够满足生产实际需要.
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
CMP在线光学终点检测算法研究及应用
来源期刊
电子工业专用设备
学科
关键词
化学机械抛光
在线终点检测
窗口检测
算法
特征点
年,卷(期)
2021,(2)
所属期刊栏目
测试•测量技术与设备
研究方向
页码范围
37-42
页数
6页
分类号
TN305.2
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-4507.2021.02.010
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
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引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
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参考文献
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参考文献(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
化学机械抛光
在线终点检测
窗口检测
算法
特征点
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
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