MBE生长InAs/GaSbⅡ类超晶格材料的界面控制方法分析

• 作者: 任洋 李俊斌 覃钢 杨晋 李艳辉 周旭昌 杨春章 常超 孔金丞 李东升
• 来源期刊: 红外技术
• 关键词: InAs/GaSb Ⅱ类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 生长中断法 MEE
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件|MATERIALS & DEVICES
• 页码范围: 301-311
• 页数: 11页
• 分类号: TN215|TN304
• 语种: 中文

摘要

本文系统地介绍了MBE外延生长InAs/GaSbⅡ类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法.短波(中波)InAs/GaSb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主;长波(甚长波)超晶格材料界面采用InSb-like界面,控制方法采用表面迁移增强法(migration-enhanced epitaxy,MEE)或Sb soak法及体材料生长相结合.讨论分析了InAs/GaSb超晶格材料界面类型选择的依据,简述了界面控制具体实施理论,以及相关研究机构对于不同红外探测波段的超晶格材料界面类型及控制方法的选择.通过界面结构外延生长工艺设计即在界面控制方法的基础上进行快门顺序实验设计,有效地提高界面层的应力补偿效果,这对于长波、甚长波及双色(甚至多色)超晶格材料的晶体质量优化和器件性能提升具有重要意义.