微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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  • 作者: 陈宝钦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  1-5
    摘要: 介绍了微电子技术的关键工艺技术--微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光...
  • 作者: 张鹏 蔡理 赵晓辉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  6-11
    摘要: 利用遗传算法对基于半经典模型的量子细胞自动机进行仿真时,通常会遇到多个极值,容易陷入局部最优.为将量子遗传算法用于量子细胞自动机仿真,对量子遗传算法进行改进,将二进制量子位改为多进制量子位,...
  • 作者: 商庆杰 杨霏 潘宏菽 闫锐 霍玉柱 默江辉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  12-14,20
    摘要: 采用自主开发的3英寸(75 mm)SiC外延技术和SiC MESFET的设计及工艺加工技术,成功地实现了S波段中长脉宽条件下(脉宽300μs,占空比10%),输出功率大于200 W,功率增益...
  • 作者: 巨永锋 康迤 文常保 闫栋
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  15-20
    摘要: 利用模块化设计思想,在Matlab编程环境下实现了基于多条耦合器双声路声表面波器件的设计仿真平台.为了提高MSC双声路SAW器件的性能,该平台将多条耦合器、分裂指及假指设计方案融合到器件设计...
  • 作者: 侯中宇 回兵 徐东 王雨化
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  21-25,36
    摘要: 研究了一种基于碳纳米管尖端的直流介质阻挡放电(DBD)微结构,使用MEMS加工工艺制作出深宽比0.5的侧壁相对的叉指状金属电极,在电极上电泳多壁碳纳米管,采用真空磁控溅射沉积二氧化硅介质层....
  • 作者: 宋佳 张居正 戴瑛 王芳 高善民 黄柏标
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  26-36
    摘要: CdSe和TiO2复合后,其对可见光的利用率大大提高,光电性能和光催化性能都得到明显改善.对CdSe敏化TiO2的原理做了简要阐述,主要综述了CdSe/TiO2纳米复合材料的制备及性能,重点...
  • 作者: 成传品 邓永和
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  37-39,57
    摘要: 介绍了溶胶一凝胶法制备掺Dy元素的Bi4Ti3O12(Bi34Dy0.6Ti3O12,BDT)薄膜的工艺过程,并研究了不同预退火气氛对沉积在Pt/Ti/SiO2/Si基片上的BDT薄膜铁电性...
  • 作者: 宋旸 段宣明 董贤子 赵震声
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  40-45
    摘要: 为了提高SU-8光刻胶的微加工分辨率,利用飞秒激光双光子聚合技术研究了SU-8光刻胶微加工时的加工工艺条件与分辨率之间的关系.实验在本研究组自主研制的纳米光子学超细微加工系统上进行,以钛蓝宝...
  • 作者: 伍文昌 杜亦佳 涂程 鲍景富
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  46-52
    摘要: 在MEMS静电执行器设计中,由于吸合效应的存在,导致微执行器调节范围受到限制.首先,对微执行器吸合效应产生的原因及其影响进行了分析与阐述.然后,针对吸合效应所带来的问题,给出了多种解决方法,...
  • 作者: 刘明 徐超 朱效立 李志超 谢常青 辛将 陈军宁
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  53-57
    摘要: 针对X射线二极管平响应滤片的设计要求.采用电子束蒸发生长薄金层、紫外光曝光光刻、微电镀厚金层、体硅腐蚀制作镂空结构和等离子体刻蚀去掉PI等技术,成功制备了阵列结构的圆孔直径为5μm,周期为1...
  • 作者: 刘黎明 曾华荣 李国荣 杨培志 殷庆瑞
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  58-62,68
    摘要: 铁电刻蚀是一种新颖的刻蚀技术,在铁电研究领域日益受到重视.对铁电刻蚀的研究现状进行了综述.首先介绍了铁电极化对铁电材料表面性能的影响,然后详细阐述了铁电畴图形化的三种方法,即微电极图形化、扫...
  • 作者: 刘明 牛洁斌 谢常青 赵珉 陈宝钦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2011年1期
    页码:  63-68
    摘要: 首先从实验现象出发,阐述了纳米级高密度、高深宽比电子抗蚀剂图形结构发生倒塌与粘连的主要几何因素及其关系.除了结构的几何因素外,结合"Beam Sway"模型分析了抗蚀剂微细结构在制作过程中的...

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

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2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

微纳电子技术统计分析

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