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微细加工技术2002年第3期出版文献
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
微细加工技术
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投稿
Microfabrication Technology
CSTPCD
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
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目录
1.
微光机电系统(MOEMS)的研究现状及展望
作者:
李云龙 殷玲 陈非凡
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
1-7
摘要:
微机械加工技术的发展为MEMS与微光学技术的结合应用提供了可能.MOEMS作为一个新兴的多学科交叉的研究领域正在兴起.着重介绍了建立在MEMS工艺基础上的MOEMS技术近年研究和开发取得的一...
2.
ASML公司光学光刻技术最新进展
作者:
刘业异 姚汉民 张强 胡松
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
8-11,27
摘要:
荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一,通过不断的技术创新,在全球光刻机市场上居于领先地位.在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上,详细分析了ASML公司在光学光刻技术...
3.
电子束缩小投影曝光系统的掩模研究
作者:
刘明 叶甜春 吴桂君 张福安 彭开武 杨清华 陈大鹏 顾文琪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
12-16,22
摘要:
介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况.
4.
缩小投影电子束曝光系统的成像反差
作者:
吴桂君 张福安 彭开武 顾文琪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
17-22
摘要:
结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差,详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法.
5.
电子束投影曝光装置实验结果分析
作者:
初明璋 张福安 彭开武 时东霞 顾文琪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
23-27
摘要:
主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点,针对在原理论证机上做的实验,着重分析讨论了聚光镜电流的大小对曝光结果的影响.
6.
带内孔平面多边形的并算法
作者:
薛虹 陈建辉
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
28-32,39
摘要:
电子束曝光机版图切割过程中可能出现带内孔的多边形,并且多边形内环与外环之间可能发生重叠.针对这种多边形,提出了新的基于矢量边的重复交点处理方法,并在此基础上给出了一个强健的多边形并算法.
7.
电子束缩小投影曝光机对准模拟软件应用
作者:
史强 张福安 靳鹏云
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
33-35,43
摘要:
介绍了用于电子束缩小投影曝光机的标记对准模拟软件及标记图形,模拟出标记对准的背散射信号,并与实际实验信号图形进行了对比.
8.
底面对准曝光中的对准技术研究
作者:
刘业异 姚汉民 胡松 陈兴俊
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
36-39
摘要:
主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择.
9.
UV-LIGA深度光刻机平滑衍射技术研究
作者:
余国彬 姚汉民 胡松
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
40-43
摘要:
UV-LIGA深度光刻技术是加工微型机电系统的一项重要的微细加工技术.介绍了一种平滑衍射效应的位错强度叠加原理,它采用了蝇眼积分透镜去平滑衍射,并模拟数值计算了硅片表面的光强分布,最后给出了...
10.
Nikon光刻机对准机制和标记系统研究
作者:
严利人
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
44-47,51
摘要:
套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一.从应用角度探讨了Nikon系列光刻机的对准方法,举例说明了众多对准标记在实际掩模版上的摆放原则.
11.
原子束全息技术制作任意微细图形研究
作者:
石建平 罗先刚 陈旭南 陈献忠 高洪涛
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
48-51
摘要:
从波粒二象性原理出发,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法,克服了用激光梯度场控制原子堆积,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足.分析讨论了原子全息与光学全息的区...
12.
碳纳米管原子力显微镜针尖的研究进展
作者:
国立秋 董申 赵铁强 陈明君
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
52-59
摘要:
碳纳米管具有很小的半径、较高的纵横比、高的柔软性能、独特的化学结构和确定的电子特性,这一系列性质使得它很适合用作原子力显微镜针尖.针尖的制作原先是手工操作,目前应用较广泛的是化学汽相沉积法(...
13.
一种微型电磁继电器的制作和仿真
作者:
张宇峰 李德胜 王东宏
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
60-64
摘要:
介绍一种基于MEMS技术的微型电磁继电器的制造工艺和仿真过程.这种微继电器主要由平面方形线圈、固定电极和活动电极构成,依靠线圈的激励电流来控制其开关动作.微继电器的大小约是4mm×4mm×0...
14.
基于SIMOX的低功耗智能卡芯片技术
作者:
严光文 张其善
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
65-69,74
摘要:
利用SIMOX材料制作智能卡是一种新的技术.简要介绍了一种智能卡的发展及应用,并描述了利用SOI(SIMOX)技术制作的一种新型智能卡芯片,概述了其优点,分析了现存的问题,并对这种芯片的发展...
15.
场发射阵列发射性能下降机制分析
作者:
李德杰 杜秉初 袁璟
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
70-74
摘要:
场发射阵列(FEA)发射性能的下降是场发射显示(FED)研究中普遍遇到的一个问题,研究FEA发射性能下降的机制对于推进FED进展具有重要意义.阴极氧化、溅射损伤和离子注入是目前提出的三种解释...
16.
氮窑氧含量巡回检测分析仪程序设计
作者:
汤辉 罗宏洋 龙娟
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
75-80
摘要:
介绍了一种新型的氧含量检测设备及其程序设计.描述了该设备中使用的监控程序设计算法,该算法吸收并改进了多种流行的监控程序编写算法,实践表明,该算法用于复杂菜单设计时可节约编程时间,减少存储空间...
17.
《微细加工技术》征订/征稿启事
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年3期
页码: 
80-80
摘要:
微细加工技术基本信息
刊名
微细加工技术
主编
曾用名
主办单位
中国电子科技集团公司第48研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
chi
ISSN
1003-8213
CN
43-1140/TN
邮编
电子邮箱
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湖南省长沙市
微细加工技术评价信息
该刊被以下数据库收录
1.
中国科技论文统计与引文分析数据库
期刊荣誉
1.
国家一级检索刊物用刊
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