Nikon光刻机对准机制和标记系统研究

• 作者: 严利人
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 套刻精度 对准标记 掩模版
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 44-47,51
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3719字
• 语种: 中文

摘要

套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一.从应用角度探讨了Nikon系列光刻机的对准方法,举例说明了众多对准标记在实际掩模版上的摆放原则.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严利人	清华大学微电子学研究所	26	81	5.0	8.0