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微细加工技术

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Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。

主办单位：

中国电子科技集团公司第48研究所

期刊荣誉：

国家一级检索刊物用刊 美国工程信息公司Ei数据库收录

ISSN：

1003-8213

CN：

43-1140/TN

出版周期：

双月刊

邮编：

地址：

湖南省长沙市

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热门刊内文献

年度刊次

1. 离子注入改进硅光伏特性研究的发展动态

作者：李建明

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 1-4,21

摘要：简述了利用缺陷促进硅光吸收特性的发展历史,概括了用离子注入引入局域缺陷,改进硅光吸收的技术,介绍了多国学者针对局域缺陷改进硅光吸收技术的研究结果及发展趋势.
2. 生物刻蚀金属制作微小三维结构

作者：孙智杰孟珺遐张利刚王西彬

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 5-8,39

摘要：生物去除法是利用微生物代谢过程中一些复杂的生化反应来达到去除多余材料,加工出其它微细加工方法不能加工出的微小结构.阐述了用氧化亚铁硫杆菌作为生物氧化剂,刻蚀以铜及铜合金为材料的基片表面,得到...
3. 碳纳米管的分子动力学模拟

作者：姚振华朱长纯李琰

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 9-14

摘要：碳纳米管的纳米级尺寸在很大程度上限制了人们对它的了解、测试与观察,严重地影响了它的发展和应用.因此,必须有简单可行的方法来合理计算、测量碳纳米管的各种特性,计算机模拟无疑是研究这种特殊材料的...
4. 六维磁悬浮纳米级精密工件台的研究

作者：于国飞何惠阳宋文荣王延风田兴志

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 15-21

摘要：设计了"H"型六维x-y工件台,利用磁悬浮技术将工件台悬浮在x、y导轨上,消除了导轨的摩擦和磨损;直线电机无接触驱动实现了工件台的粗定位;控制不同磁悬浮电磁铁的电流大小,可以实现工件台的微定...
5. 掩模光栅微形变控制方法的研究

作者：李连进王惠斌

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 22-26

摘要：为消除用X射线光刻机加工芯片时,光栅变形对图形特征尺寸的影响,提出了用外力控制掩模光栅微小变形方法.用理论分析和有限元计算相结合的方法分析掩模光栅在外力作用下的微小变形及其误差,并对实际结构...
6. 热丝CVD法生长纳米金刚石薄膜的研究

作者：孙方宏张志明戴永兵汪涛沈荷生莘海维

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 27-33

摘要：系统地研究了热丝CVD法中反应气体压力对沉积产物金刚石薄膜的形貌和拉曼谱图的影响,提出了热丝CVD生长纳米金刚石薄膜的新工艺,并在φ50mm硅片上沉积得到高质量的多晶纳米金刚石薄膜.高分辨透...
7. 非致冷红外焦平面阵列VO2薄膜结构和性能研究

作者：崔敬忠许旻贺德衍

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 34-39

摘要：采用射频磁控反应溅射方法,通过精确地控制氧分压、基底温度等关键工艺参数,沉积出满足非致冷红外焦平面阵列使用的VO2薄膜.解决了以往其它方法制备过程中薄膜相成份较为复杂、薄膜不均匀和电阻温度系...
8. 采用微波等离子体平整金刚石薄膜的实验研究

作者：冉均国张欣苑苟立袁再芳

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 40-43,56

摘要：金刚石薄膜的表面平整是金刚石薄膜应用于光学、电学等领域的关键.采用氧气作气源,研究了微波等离子体工艺参数如微波功率、基台位置、氧气流量对平整金刚石薄膜效果的影响.处理后的样品用SEM、AFM...
9. 异形孔的微细超声电火花加工技术研究

作者：于滨狄士春王振龙赵万生

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 44-50

摘要：在分析了几种微小异形孔加工方法的前提下,介绍了采用微细超声电火花加工方法进行微小异形孔的加工.重点研究了微细超声电火花加工系统的关键技术,通过理论分析与大量实验证明了超声振动对于提高微小异形...
10. MEMS中几何量的测试方法

作者：李智王向军

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 51-56

摘要： MEMS测试技术及方法是MEMS设计、制造、仿真及质量控制和评价的关键环节之一,讨论了应用于MEMS几何量测量的微视觉、扫描探针、光切、干涉、共焦、光栅投影等方法及基于材料和微结构特性的特殊...
11. RF平面螺旋微电感的物理模型

作者：周勇王西宁蔡炳初赵小林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 57-60

摘要：为了在RF频率域内准确模拟RF平面螺旋微电感的性能,讨论了一种计算RF平面螺旋微电感的物理模型,此模型采用Greenhouse法计算微电感的电感量,在计算微电感Q值时,考虑了诸如涡流、衬底电...
12. 铁芯和空芯螺线管型微电感器的性能比较

作者：吴茂松杨春生茅昕辉蔡炳初赵小林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 61-64

摘要：为了满足RF电路、电源电路、微执行器和微传感器等领域对高性能和工艺简单的电感器的广泛需求,用正、负胶结合的微加工工艺,在硅基片上制作了有坡莫合金铁芯的和在玻璃基片上没有铁芯的、其它结构和参数...
13. 大驱动力高刚度纳米致动新原理研究

作者：周波杨圣江兵

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 65-68,72

摘要：提出了一种将高位移分辨率的压电陶瓷致动器与大驱动力的电磁致动器进行有机结合,实行优势互补的新方法.基于新原理研制的实验样机获得了较好的技术性能指标,即驱动力300N,刚度95N/μm;分辨率...
14. 可变波长光纤光栅滤波器用微驱动器的研制

作者：佐佐木实李以贵羽根一博

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 69-72

摘要：为了研制可调谐光纤光栅滤波器而采用拉伸装置和光纤光栅一体化的微小器件结构.实现方法是由微细加工技术加工制造一种新的波长可变光纤光栅滤波器用驱动器,该微型驱动器采用电磁式驱动,由上下两层线圈构...
15. 双转子平面微电机定子制作工艺研究

作者：吴一辉宣明张平梁静秋王淑荣郭占社

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 73-75,80

摘要：为减小平面微电机轴向尺寸,解决轴向单边拉力问题,制作了双转子平面微电机.定子采用平面结构,双面各呈辐射状均布平面线圈,正、反面相对应的线圈由穿过基底的引线相连.采用以准LIGA技术为基础的制...
16. 多孔硅在电容式微传声器制备中的应用研究

作者：刘忠立刘焕章宁瑾葛永才

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年1期

页码: 76-80

摘要：多孔硅具有选择性生长以及可以迅速释放的特性,是MEMS工艺中很好的牺牲层材料.探讨了多孔硅牺牲层工艺的特点,并通过实验证明了其在电容式微传声器制备中的应用可能.提出可以采用氧化多孔硅材料作牺...
17. 光刻机的演变及今后发展趋势

作者：李艳秋

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 1-5,11

摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术发展与变革的动力。通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，结合比较极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来以极紫外光...
18. 图形发生器单元圆生成算法及填充策略

作者：商涛薛虹

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 6-11

摘要：随着微电子技术的发展，某些特殊器件如集成光栅的生产，需要进行圆弧图形的曝光。在Bresenham算法的基础上，提出了一种圆生成算法及填充策略。该方法通过设置决策函数和迭代增量，判断最接近圆函...
19. 一种新型图形发生器硬件方案的研究

作者：张鹏方光荣

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 12-16

摘要：介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案，该方案以DSP处理器为核心，通过USB接口与上位机通讯，具有标记检测和曝光扫描两项基本功能，同时增加了圆形和圆环图形的处理功能。通过将现有图...
20. V和C双注入钢纳米结构和抗磨损特性

作者：刘安东吴瑜光张通和

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 17-20,39

摘要：介绍了V＋C双重离子注入钢的合成纳米结构、相变和抗磨损机制。研究表明，V＋C离子注入可使H13钢表面的硬度提高70％，摩擦系数下降52％，适合于工业应用。探索了改善H13钢表面摩擦学特性的新...
21. ICP刻蚀技术及其在光电子器件制作中的应用

作者：余金中樊中朝陈少武

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 21-28

摘要：简单介绍了ICP(inductively coupled plasma)刻蚀设备的结构和刻蚀机理，报道了ICP刻蚀硅、二氧化硅和Ⅲ-V族材料的一些最新进展，重点介绍ICP刻蚀技术在光电子器件...
22. 光刻机曝光光学中的概念辨析

作者：严利人

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 29-33

摘要：归纳解释了光刻机曝光光学中的若干重要概念，例如分辨率、集深等，详细地阐述了光刻机曝光的原理。考虑到类似概念在不同系统中的含义差异，进行了针对性的辨析。从物理光学层次了解和掌握光刻机曝光的机理...
23. X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析

作者：余建祖余雷王永坤陈大鹏

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 34-39

摘要： X射线光刻掩模是下一代光刻技术(NGL)中的X射线光刻技术的关键技术难点。在电子束直写后的掩模后烘过程中，掩模表面的温度场分布及温升的均匀性是影响掩模关键尺寸(CD)控制的重要因素，如果控制...
24. 磁控溅射制备Co／Al2O3／FeNi磁隧道结

作者：任妙娟季刚宋红强梅良模陈延学

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 40-42,48

摘要：利用磁控溅射设备和光刻技术，采用金属等离子体氧化法，设计制作了10μm×15μm的Co／Al2O3／FeNi磁隧道结，并在77K下对其输运特性进行了研究。测得了11％的隧道磁电阻。随着外加电...
25. 接近式光刻的计算机模拟研究

作者：刘刚张新夷张鹏田学红田扬超

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 43-48

摘要：在接近式光刻中，衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底间的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中，都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论，分析了菲涅尔近似模拟的误差起源，并对菲涅耳近...
26. 纳米Ge颗粒镶嵌硅基薄膜的结构与光吸收特性的研究

作者：吴雪梅姚伟国梁昌掁欧阳义芳

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 49-53,58

摘要：采用射频磁控共溅射方法制备了纳米Ge颗粒镶嵌于SiO2中的复合薄膜(Ge-SiO2)，结合样品结构对光吸收特性进行深入的研究。研究发现该类样品存在较强的光吸收，并且光吸收边随Ge颗粒尺寸变小...
27. PDMS薄膜电磁微泵的原理与制作

作者：吴一辉张平王淑荣白兰

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 54-58

摘要：铁硼永磁薄片以及下部的平面线圈。与硅膜相比，这种泵膜材料使用寿命长，物理化学性质稳定，光学特性和机械特性优良。下部的通电线圈与固连在泵膜上的钕铁硼相互作用，从而引起泵腔体积的变化，进而控制微...
28. 双光子三维微细加工重要工艺参数的实验研究

作者：刘允萍禇家如蒋中伟袁大军陈荣刚黄文浩

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 59-63

摘要：优化工艺参数是保证双光子微细加工质量的重要条件。经分析选取了激发光强、覆盖率和物镜的数值孔径作为实验研究对象。用自行开发的双光子微细加工系统，通过单独控制一个加工条件而固定其它条件的方法，对...
29. 基于微机械工艺的平面微电机的研究

作者：吴一辉张平梁静秋郭占社

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 64-68,75

摘要：为提高微电机的输出力矩，增加微电机散热能力和电流密度，提高电机工作效率，设计了一种具有双转子结构的平面微电机。两个转予对称分布于定子两侧。转子采用永磁体进行轴向充磁。定予为平面线圈，是采用硅...
30. 压阻式金刚石压力微传感器的制作与测试

作者：凌行孙方宏张志明戴永兵沈荷生莘海维

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2003年2期

页码: 69-75

摘要：由于金刚石薄膜具有优良的高温压阻特性，适合于制作高温压力传感器。在Φ50mm<100>硅单晶衬底上用热丝CVD法生长本征多晶金刚石薄膜作为绝缘隔离层，通过掩模选择性生长法得到掺硼金刚石薄膜电...

微细加工技术基本信息

刊名	微细加工技术	主编
曾用名
主办单位	中国电子科技集团公司第48研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种	chi
ISSN	1003-8213	CN	43-1140/TN
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