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真空科学与技术学报2001年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
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3
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19905
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31. 偏转磁芯中磁滞损耗的估测刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 通过空间磁场和感应电压的测量，对偏转磁芯中的磁通密度分布进行了计算，并根据磁滞损耗的经验公式对Philips 17英寸CMT的磁滞损耗进行了估测。该方法适用于降低能量损耗的偏转系统磁芯结构的...
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32. HLS储存环压强分布计算刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 在储存环中束流寿命与残气压强息息相关，而储存环真空系统的特殊结构又影响压强计算、测量的精确性，因此储存环压强的准确读取一直为人们所关注。本文主要介绍合肥光源(HLS)储存环真空系统压强分布的...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 为测量气体放电磁化等离子体离子参数，建立了一套静电离子探针诊断系统，进行了从近芯部到边缘区的离子温度分布的测量，结果与常规朗缪尔探针对电子参数的测量结果吻合。
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34. 中国真空学会2001年活动计划表刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要：
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 采用Raman和荧光测量研究了低碳含量a-Si1-xCx∶H(x≤20%(原子比))薄膜的结构特征，并选用两种不同波长的激光来激发这些材料。采用647.1 nm光激发时，由于激发光能量接近于...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 利用同步辐射光电子能谱技术详细研究了Fe/GaAs(100)的界面反应和电子结构。在界面处，Fe与As形成稳定的化学键，而Ga则溶解到Fe薄膜中形成合金，但反应只能在界面处发生，形成窄的反应...
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37. 二次离子质谱学的新进展刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 简要回顾了二次离子质谱学的形成和发展，从原始概念出发概括分析了学科的特点，据此评述了其领域的拓宽和现状。结合近5年来国内外的最新进展，以微电子学和光电子学为重点，兼顾生物和医学、地质和天体学...
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38. 一种制备优质有机光学薄膜的新方法刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 提出了一种用真空蒸发和真空热压相结合的技术来制备优质有机光学薄膜的方法。用它制成的有机光学薄膜中没有任何残留有机溶剂，在放置过程中也不产生晶化，因而不会对光发生散射。在光通讯器件、有机发光、...
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39. 一种精确的光点测试系统刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍了一种精密光点测试系统。它采用脉冲方法刷新光点，并且刷新频率和电源频率保持同步，从而避免了扫描及视频方法引起的测量误差，同时避免了散逸电磁场的影响；并克服了采用扫描光栅、通过信号发生器或...
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40. 用于平面显示的MISM结构阴极刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 讨论了平面型场致热化电子发射阴极，对玻璃衬底/Mo/Ta2O5/ZnS/Au结构的平面型场致热化电子发射阴极的制备及其发射性能进行了论述，讨论了在不同工艺参数下器件的发射情况。实验表明，通过...
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41. 弧光放电法原位清洗光学元件刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 光学元件受到污染后其光学性能会变差，如何对其进行清洗，尽可能地恢复其原来的性能，使其能够重新使用显得很重要。本文介绍一种碳污染的原位清洗方法——射频弧光放电法，利用原子氧与光学元件表面所沉积...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍了在封离轴向放电型CO2激光器正柱区管内壁上直接镀制金膜，作为促使器件工作时分解的CO2分子再生复合的催化剂及有关的问题。
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了［NiFe/Ag］n不连续多层膜。从理论上分析了不连续膜低响应、高磁电阻值的机制，不连续膜模型介于多层膜模型及颗粒膜模型之间。研究了工艺...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 通过磁过滤真空弧等离子体沉积技术，在单晶Si和H13钢衬底上生长一层Ti沉积膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪对膜层进行了测量和分析。结果表明，加上磁过滤器的沉积膜表面平整光...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4和H2为反应气体进行了金刚石膜的沉积实验，研究了反应气体的压强对金刚石膜中非金刚石碳相含量的影响。实验发现，当微波输入功率较小时，随着反应气压的上升，...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理，介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制，允许使用多个石英晶体探头，以适应多源共蒸发真空镀膜的需要。监测...
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47. 全固态电致变色器件工艺技术研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 提出一种新型结构与材料的全固态电致变色器件，及其氢化技术和制作工艺。在实验室中研制出2 cm×2 cm可重复转换、性能优良的电致变色器件，为大面积电致变色器件连续自动生产线的研制作了必要的技...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 利用光学折射原理推导了平面彩色显像管显示屏内表面与其虚像的关系，并进行了数值计算模拟，得到了显示屏内表面的优化曲率半径。采用此设计方法制作彩色显像管，既能得到失真较小的显示图像，又能使显示屏...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 矩形波驱动的四极场同样可用于对离子进行质量分析和存储。本文推导了离子在矩形波四极场中的运动规律，并以常用于正弦波四极场的马绍方程参量a,q来表出离子的稳定性。运用赝势阱概念探讨了离子在这种四...
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50. 大尺寸电子束引出窗刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 详细介绍了一种新型平面压封结构的大尺寸电子束引出窗口的研究和设计，并给出了金属膜窗的基本参数的设计方法和计算公式，为大尺寸电子束引出窗的设计提供了依据，可作为同类膜窗设计的参考。
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 用热脱附谱(TDS)对不同表面处理的富La混合储H2合金MlNi4Co0.6Al0.4粉末样品进行H2气吸附和脱附特性的比较和研究。未经表面处理的粉末样品，只测到一个H2脱附峰(α峰)，脱附...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 采用非平衡磁控溅射及射频激励产生金属等离子体，在单晶基体Si上等离子体基离子注入钼。选择不同的靶基距，即不同的Mo沉积速率，研究了沉积速率对Si中Mo注入层的影响，用X光电子能谱(XPS)对...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 根据新型等离子体平板显示器结构的对称性，利用二维数值模拟方法计算了该结构的放电过程。介绍了计算过程及某些参数的确定。给出了电场随时间的变化情况以及各种粒子浓度分布随时间的变化情况。由此可清楚...
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54. 矩形偏转系统的近似多极场模型刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 提出了可以应用于矩形偏转系统的近似多极场模型，并给出了应用该模型进行偏转系统优化设计的方法，计算比较了旋转对称多极场模型和矩形近似多极场模型的磁场分布，应用近似多极场模型对矩形偏转系统的偏转...
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55. 物理气相沉积薄膜的界面与附着力刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 近十多年来，气相沉积技术发展十分迅速，无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果，尤其在PVD薄膜的附着力方面，研究十分活跃。本文根据有限的资料，初步归纳出：在PVD过程中，膜/基附着力...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 利用真空沉积方法制备了Ag-BaO光电发射薄膜，第一次用扫描隧道显微镜(STM)研究了Ag-BaO薄膜的表面结构，得到了高分辨的表面形貌像。介绍了Ag-BaO薄膜微区表面复杂的形态结构，并将...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 用超高真空化学气相沉积方法，在Si(100)衬底上生长掺C高达2.2%的Si1-x-yGexCy合金薄膜，外延层质量良好。用高分辨透射电子显微镜，X射线衍射，傅立叶红外吸收光谱以及拉曼光谱对...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 提出了用有效时差优化彩色PDP光刻工艺参数的理论和优化设计方法，并用实例说明了该理论的实用性。
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 利用固体质谱仪和气体质谱仪分别进行了聚酰亚胺绝缘膜的表面成分及在高温烘烤过程中的放气性能和气体成分分析。结果表明，聚酰亚胺材料中不存在污染阴极的有害成分，并且经高温烘烤后，在300 ℃时的平...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2001年3期页码:摘要： 通常在托卡马克第1壁沉积1层B膜，以降低托卡马克等离子体的O杂质。在HT-7第1壁位置处放了几个石墨样品，它们与HT-7一起硼化。硼化后取出部分样品膜，剩余样品留在真空室接受聚变等离子体的轰...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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