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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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总被引数（次）
19905
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  • 1. 可变翼极高真空轨道分子屏研究
    作者： 张华林 达道安 闫少光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  79-82,92
    摘要： 本文提出可变翼极高真空轨道分子屏的概念,建立了理论模型,推导出了压力表达式,计算了该分子屏的极限压力及压力曲线,翼长、翼角和压力的关系曲线.结果表明:可变翼极高真空轨道分子屏选择一定长度的翼...
  • 2. 溅射沉积Cu膜生长的Monte Carlo模拟
    作者： 刘祖黎 姚凯伦 张雪锋 黄运米
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  83-87,114
    摘要： 在本文中,我们建立了一个较完整的基于动力学晶格蒙特卡罗方法的模拟薄膜生长的三维模型,利用该模型我们研究了溅射沉积条件下粒子的沉积角度、沉积速率以及入射能量对Cu膜生长的影响.模拟结果表明Cu...
  • 3. 维持期辅助脉冲对彩色等离子体显示器性能的影响
    作者： 刘纯亮 张小宁
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  88-92
    摘要： 为提高彩色等离子体显示器(PDP)的性能,研究了维持期辅助脉冲对PDP的亮度、亮度效能、功耗、白平衡、色温等参数的影响.实验结果表明,维持脉冲上升的同时加500 ns宽度的辅助脉冲,能同时提...
  • 4. p型透明导电的锡镓氧化物薄膜的制备及其表征
    作者： 周强 季振国 王超 赵丽娜 陈琛
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  93-95,99
    摘要： 本文通过磁控溅射锡镓合金靶(Ga/Sn=0.2)及热氧化的方法,成功地制备了p型透明导电的锡镓氧化物(TGO)薄膜.X射线衍射(XRD)测试结果表明,TGO薄膜保持SnO2的金红石结构.吸收...
  • 5. Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜的微结构及铁电性能研究
    作者： 杨传仁 符春林 赵莉 陈宏伟 高志强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  96-99
    摘要： 采用射频磁控溅射法制备了Ba0.6Sr0.4TiO3(简称BST)薄膜材料,研究了BST薄膜的组成、晶体结构、表面形貌及介电性能.介电偏压特性曲线和电滞回线都表明其具有铁电性,厚度为500 ...
  • 6. 低能电子全息高分辨率三维数值重现研究--一种提高三维重现像分辨率的新方法
    作者： 凌立 单莉英 孙毅 顾昌鑫
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  100-104
    摘要： 本文将一种基于多电子能量电子全息重现像加权叠加原理的方法,用于提高低能同轴电子全息的三维数值重现像分辨率,并以三层石墨晶体为样品进行了计算机模拟研究.结果表明,用该方法数值重现时可以有效地消...
  • 7. ZnTe插层对CdS/CdTe光伏器件性能的影响
    作者： 冯良桓 宋慧瑾 张静全 李卫 武莉莉 蔡亚平 蔡伟 郑家贵 鄢强 黎兵
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  105-109
    摘要： 从理论上分析了CdS/CdTe/Au器件的暗态、高正偏压下电流饱和(Roll-over)和光照、高正偏压下光暗I-V曲线相交(Cross over)现象.通过对比有无插层的CdTe太阳电池在...
  • 8. Langmuir探针诊断微波ECR非平衡磁控溅射等离子体
    作者： 刘天伟 张治国 徐军 董闯 邓新禄 陈小锰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  110-114
    摘要： 利用朗谬尔探针诊断了ECR非平衡磁控溅射等离子体,给出了微观等离子体参量随宏观工艺参量变化关系.实验测得基片架附近等离子体密度达到1010～1011数量级,电子温度在(5～10) eV之间....
  • 9. 等离子体浸没离子注入(PIII)过程中初始离子阵鞘层尺度内各物理量的时空演化
    作者： Paul K.Chu Ricky Fu 杨士勤 田修波 黄志俊 黄永宪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  115-119
    摘要： 等离子体浸没离子注入(PIII)是用于材料表面改性的一种较新的、廉价的、非视线的技术.靶体被浸没在等离子体中,等离子体中的离子在靶体负脉冲偏压的作用下注入靶体而实现材料的表面改性.为了描述等...
  • 10. 离子注入改性聚[2-甲氧基-5-(3'-甲基)丁氧基]对苯乙炔微观结构与性能
    作者： 刘效增 吴洪才 孙建平 李宝铭 高潮
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  120-122,126
    摘要： 采用低能氮正离子(N+)对π共轭高分子聚[2-甲氧基-5-(3'-甲基)丁氧基]对苯乙炔(MMB-PPV)薄膜进行离子注入改性,注入剂量为9.6×1016 ions/cm2,能量为30 ke...
  • 11. 磷掺杂类金刚石薄膜的制备与性能研究
    作者： P.K.Chu Sunny C.H.Kwok 杨萍 王进 陈俊英 黄楠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  123-126
    摘要： 应用等离子体浸没离子注入与沉积方法合成了磷掺杂的类金刚石(P doped diamond like carbon,P-doped DLC)薄膜.结构分析表明磷以微米级岛状结构分散于DLC薄膜...
  • 12. 多级串联密封系统泄漏仿真与实验研究
    作者： 于建平 刘占卿 刘阳 孙冲 崔展鹏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  127-133
    摘要： 建立了多级串联密封系统的数学模型,通过理论分析和数值计算,揭示了多级串联密封结构正压泄漏的漏率、漏量与泄漏时间关系的一般规律.给出了三级密封系统泄漏的仿真计算实例.通过三级串联密封泄漏实验验...
  • 13. 非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性
    作者： 徐均琪 惠迎雪 杭凌侠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  134-137,141
    摘要： 非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用.采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质.本文研究了非平衡...
  • 14. 利用双等离子体装置产生非均匀等离子体
    作者： 万树德 俞昌旋 曹金祥 李经菊 李阳芳 汪海 肖德龙 谢锦林 闻一之 马锦秀
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  138-141
    摘要： 在双等离子体实验装置中,采用单边放电的方式在源区产生等离子体,通过扩散和电子碰撞电离可以在实验区产生密度分布不均匀的等离子体.利用静电探针测量了实验区等离子体的状态参数及其空间分布,结果显示...
  • 15. 高迁移率透明导电In2O3:Mo薄膜
    作者： 华中一 张群 李喜峰 章壮健 缪维娜 黄丽
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  142-145,149
    摘要： 用直流磁控溅射法成功制备了高价态差掺钼氧化铟(IMO)透明导电薄膜.研究了氧分压,基板温度以及溅射电流对IMO薄膜结构和性能的影响.获得的IMO薄膜的最低电阻率为3.65×10-4 Ω·cm...
  • 16. 微波ECR等离子体特性及其对DLC膜性能的影响
    作者： 丁万昱 刘天伟 张治国 徐军 邓新绿 陈小锰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  146-149
    摘要： 为了解并优化在微波ECR等离子体增强化学气相沉积制备类金刚石膜工艺研究中的等离子体特性,利用朗缪尔探针法系统地测量了等离子体密度(Ne)、电子温度(Te)随工作气压(p)变化的关系.DLC膜...
  • 17. Ar压强对硅基Al膜应力和微结构的影响
    作者： 孙兆奇 宋学萍 方伟 饶淑玲
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  150-153,158
    摘要： 用直流磁控溅射法在室温Si基片上制备了溅射时间分别为5 min和10 min,氩气压强分别为0.7、3、6 Pa的6种Al膜,用光学相移法和X射线衍射法对Al膜的应力和微结构随着压强的变化进...
  • 18. 中性束注入器漂移管道用低温泵的设计
    作者： 欧阳峥嵘 王君 聂金良 胡纯栋 葛锐 陈长琦
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  154-158
    摘要： 随着中性束注入器研究的深入开展,我们在成功地设计了一台真空室用的400 000 L/s低温泵的基础上又对漂移管道用的20 000 L/s的低温泵进行研制.本文在详细分析漂移管道特点及其对低温...
  • 19. 《真空科学与技术学报》征稿说明
    作者：
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2005年2期
    页码:  插3
    摘要：

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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