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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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19905
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  • 31. CuAlO2热电性能的研究进展
    作者： 吴芳 彭丽萍 方亮 黄秋柳
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  144-149
    摘要： P型透明导电氧化物CuAlO2具有超晶格层状结构,显示出非常好的热电性能,在热电转换领域可望有广阔的应用前景.本文简要介绍了CuAlO2的结构和能带特点,从制备过程、微观结构、退火条件和掺杂...
  • 32. 真空钎焊温度的建模与解耦控制
    作者： 吴燕翔 孙海燕 寇得民 李晓斌
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  150-154
    摘要： 真空钎焊炉中温度的精确控制是一个多变量控制问题,为实现钎焊温度的精确控制,以真空钎焊现场实际采集的数据为基础,辨识出真空钎焊炉温区温度一阶模型,提出一阶滞后系统的多变量预测函数解耦控制算法,...
  • 33. 等离子体辅助脉冲激光沉积和原位掺杂方法制备稀土掺杂GaN薄膜
    作者： 卢意飞 吴嘉达 孙剑 施立群 许宁 高昆
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  155-159
    摘要： 利用基于双激光束双靶共烧蚀的等离子体辅助脉冲激光沉积的化合物薄膜沉积和原位掺杂方法,制备了稀土Er掺杂和Pr掺杂的GaN薄膜.基质膜层中的Ga和N化合成键形成GaN,其组织结构为六角CaN相...
  • 34. TiZrV吸气剂激活过程的XPS分析
    作者： 尉秀英 杜军 熊玉华 秦光荣 褚永俊
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  160-163
    摘要： 本文用x射线光电子能谱仪(XPS)对TiZrV合金吸气剂的激活过程进行了监测,研究了吸气剂表面Ti、Zr、V、 O、 C元素的化学价态随温度的变化.实验结果表明:暴露过大气的TiZrV吸气剂...
  • 35. 离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响
    作者： 刘宏开 王多书 罗崇泰 陈焘
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  164-167
    摘要： 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜...
  • 36. 反应磁控溅射碳化钒薄膜的微结构与力学性能
    作者： 乌晓燕 李广泽 李戈扬 陈扬辉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  168-172
    摘要： 在Ar、C2H2混合气氛中通过反应磁控溅射法制备了一系列不同碳含量的碳化钒薄膜,利用EDX、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能.研究了C2H2分压对薄膜成分、相组...
  • 37. 原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用
    作者： 何俊鹏 刘旭 沈伟东 章岳光 顾培夫
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  173-179
    摘要： 回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫...
  • 38. ITO薄膜的透射谱解谱
    作者： 孙兆奇 曹春斌 郭守月
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  180-183
    摘要： 用直流磁控溅射法在普通载波片上制备了厚度130hm左右的ITO薄膜,分别在100、200、300和400℃下退火lho测量了退火前后几个样品的XRD和透射率,利用椭偏解谱方法对几个样品的透射...
  • 39. 划痕法综合评定膜基结合力
    作者： 刘正义 曾德长 瞿全炎 邱万奇
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  184-187
    摘要： 用划痕实验探索了综合表征膜基结合力的方法.在瑞士CSM仪器的微划痕测试仪(Micro-Scratch Tester,MST划痕仪)对真空多弧离子镀设备制备的WC-Co/TiN膜基结合力进行划...
  • 40. 工艺条件对硼掺杂纳米硅薄膜微结构及力学性能的影响
    作者： 丁建宁 何字亮 潘海彬 王君雄 王秀琴 祁宏山 程广贵 范真 袁宁一
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  188-193
    摘要： 采用射频和直流偏压(RF+DC)双重激励源,在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中成功制备了掺硼纳米硅薄膜.改变衬底温度、射频功率和退火温度几个关键工艺参数,利用拉曼(Raman)谱...
  • 41. 刀片表面Ti-Si-N涂层的制备及应用研究
    作者： 梁红樱 沈保罗 王辉 赵海波 黄林君
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  194-197
    摘要： 本文通过改变硅靶电流的方法,用自制的磁控溅射设备在硬质合金刀片上制备了Ti-Si-N薄膜.用x射线衍射研究了Ti-Si-N薄膜的结构和织构变化,用XPS分析了薄膜的相组成,用显微硬度计测定了...
  • 42. 全超导托卡马克第一壁石墨材料的放气特性研究
    作者： 王厚银 王小明 窦仁超 胡建生 陈长琦 龚先祖
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  198-203
    摘要： 全超导托卡马克(EAST)实验中,面向等离子体材料(PFM)的放气特性直接影响到等离子体的品质.因此采用动态流导法的实验装置,在不同温度和真空度下对表面镀有SiC薄膜的GBST1308(B ...
  • 43. 螺旋线行波管非线性失真分析
    作者： 唐康淞 李实 赵刚 阴和俊
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  204-208
    摘要： 非线性失真是空间行波管最重要的性能指标之一.本文研究了双渐变螺旋线慢波结构各个参量,如长度以及螺距对行波管非线性失真的影响,确定了对不同非线性失真影响最大的结构参量,分析了非线性失真产生的根...
  • 44. 磁控溅射制备非晶态TiO2-V薄膜的光催化性能研究
    作者： 李月霞 蔡小平 赵培 黄佳木
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  209-212
    摘要： 采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备v掺杂非晶态TiO2薄膜,研究了射频掺杂功率、基片温度以及薄膜厚度等因素对薄膜光催化性能的影响.x射线衍射(XRD)及x光电子能谱(XPs)分析表明:薄膜为...
  • 45. TiO2/TiN/PI低红外发射率迷彩薄膜制备及其特性研究
    作者： 刁训刚 孟超 曹晔 陈将乐 顾宝霞
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  213-217
    摘要： 采用多弧离子镀在聚酰亚胺(PI)基底上制备了TnO2/TiN低红外发射率迷彩薄膜,通过控制溅射的时间,使制备出的薄膜在可见波段具有各种丰富的颜色效果,使其具有迷彩特性,通过制备工艺的优化使其...
  • 46. 基于热电堆结构的微型热传导真空传感器
    作者： 梁平治 程正喜 陈世军 马斌
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  218-223
    摘要： 本文描述了一种与CMOS工艺完全兼容的热电堆微型热传导真空传感器.该传感器可在商业化的标准CMOS生产流水线上进行流片,配合后续的无掩模体硅各向异性腐蚀工艺,即可完成全部制造程序.器件敏感部...
  • 47. 《真空科学与技术学报》征稿说明
    作者：
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年2期
    页码:  224
    摘要：
  • 48. 栅极调制纳米线的场发射特性
    作者： 曾乐勇 梁静秋 王维彪 雷达
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  225-230
    摘要： 建立一个理想的带栅极纳米线模型,利用静电场理论计算出纳米线顶端电场增强因子,进一步分析了栅孔半径以及栅极电压等参数对电场增强因子和纳米线顶端表面电流密度的影响.结果表明,在加较大的栅极电压的...
  • 49. 磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究
    作者： 孙建 张晔 李学超 李长生 金岚
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  231-235
    摘要： Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点.而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具...
  • 50. 生物可降解Fe-O薄膜的制备及性能表征
    作者： 刘恒全 孙鸿 张瑜 徐莉 朱生发 黄楠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  236-240
    摘要： 纯铁由于其可降解性和无毒性,在血管支架材料领域具有潜在的应用前景.本文采用等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ&D)方法,在纯铁表面沉积一层Fe-O薄膜以改善纯铁表面的抗腐蚀性,用X射线光电子能...
  • 51. 真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响
    作者： 张旭东 李建功 王姝 魏玉鹏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  241-246
    摘要： 采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜,系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响.当热处理温度高于450℃时,薄膜中有磁致伸缩的RFe2结晶相形成.热处理使Tb0.28Dy...
  • 52. 离子束表面处理抑制空间行波管多级降压收集级二次电子发射的研究
    作者： 丁明清 冯进军 刘明辉 李兴辉 白国栋 赵青平 陈其略 高玉娟 黄明光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  247-250
    摘要： 设计了一台抑制空间行波管多级降压收集极二次电子发射的、专用离子束处理设备.研究了Mo 原子沉积速率对二次电子发射系数和表面织构的影响.无氧铜片基底上的试验结果表明,二次电子发射系数与Mo原子...
  • 53. 表面波等离子体天线的能量衰减系数研究
    作者： 位朝垒 孙乃峰 李建 王世庆 鄢泽林
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  251-254
    摘要： 根据功率平衡原理,得到了表面波等离子体天线中等离子体柱长度、等离子体密度与馈入功率的关系,导出了表面波等离子体天线中能量衰减系数沿轴向分布.实验测得充气压强为0.5Pa,6Pa和40Pa时等...
  • 54. 等离子体浸没式离子注入沉积技术及应用
    作者： 任瑛 姜辛 张贵锋 董闯
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  255-263
    摘要： 等离子体浸没式离子注入沉积是近年来迅速发展的一种材料表面改性新技术,其基本原理是,作为靶的工件外表面全部浸没在低气压、高密度的均匀等离子体中,工件上施加频率为数百赫兹、数千至数万伏高压负脉冲...
  • 55. He-Ar潘宁过程对表面波等离子体的影响
    作者： 孙乃峰 徐灵飞 李建 柳建 王世庆 王坤 郦文忠
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  264-267
    摘要： 潘宁过程可以有效地降低直流、低频放电中的放电起始电压.关于射频放电,特别是表面波等离子体中的潘宁过程的研究,目前还很少有报道.本文介绍了一种由Ro-box装置激发的SWP源,通过实验方式研究...
  • 56. 大气压下甲烷等离子枪的光谱诊断研究
    作者： 刘福平 张军峰 张跃飞 边心超 陈强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  268-272
    摘要： 以甲烷为反应气体,氩气为辅助气体,通过大气压介质阻挡放电等离子枪,制备纳米类金刚石.在此过程中,利用发射光谱对甲烷等离子体中产生的活性粒子进行光学发射特征的原位诊断.通过对检测到的发射光谱谱...
  • 57. 镀制工艺对TiO2光学膜层折射率影响研究
    作者： 耿桂宏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  273-276
    摘要： 研究分析了基底温度、沉积速率、氧气分压、离子束辅助沉积等工艺参数和条件对TiO2膜层折射率的影响.研究表明,随着基底温度升高,TiO2光学膜层折射率呈上升趋势;随着沉积速率提高,TiO2膜层...
  • 58. 射频溅射法制备硫化钨固体润滑薄膜的研究
    作者： 巴德纯 惠秀梅 杜广煜 王晓光
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  277-281
    摘要： 本文研究了采用射频溅射法以3Cr13马氏体不锈钢为基片制备硫化钨薄膜.实验分别采用了不同的溅射功率、工作气压和沉积时间来制备样品.之后对三组样品分别进行物相分析、表面形貌观察、测定微区化学成...
  • 59. 磁控溅射TiC/a-C薄膜的结构和摩擦学性能研究
    作者： 张文艳 张旭海 方峰 蒋建清
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  282-286
    摘要： 采用磁控溅射法制备不同碳含量的碳化钛薄膜.采用SEM、XRD及HR-TEM等手段分析了TiC/a-C薄膜的微观组织结构,采用摩擦磨损仪和台阶仪研究了薄膜的摩擦学性能.研究结果表明,碳含量在4...
  • 60. 射频磁控溅射法低温制备ZnO:Zr透明导电薄膜及特性研究
    作者： 刘汉法 张化福 类成新 袁长坤
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2009年3期
    页码:  287-291
    摘要： 利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO:Zr)透明导电薄膜.讨论了薄膜厚度对ZnO:Zr薄膜结构、形貌、光电性能的影响.实验结果表明,厚度...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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