磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究

• 作者: 孙建 张晔 李学超 李长生 金岚
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Mn-Ga 形状记忆合金 薄膜 ECR磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 231-235
• 页数: 5页
• 分类号: TB381
• 字数: 3104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.02

摘要

Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点.而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具有较高的响应频率.为实现磁-力-电的快速转换,本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜.并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响.SEM断面形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜为柱状生长模式;AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密,表面粗糙度随着溅射功率的增大而增大;Ni-Mn-Ga薄膜的硬度和弹性模量随退火温度的升高而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李长生	江苏大学材料科学与工程学院	127	626	12.0	18.0
2	张晔	江苏大学材料科学与工程学院	12	45	4.0	6.0
3	孙建	江苏大学材料科学与工程学院	10	128	6.0	10.0
4	金岚	江苏大学材料科学与工程学院	3	21	3.0	3.0
5	李学超	江苏大学材料科学与工程学院	5	22	3.0	4.0