真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响

• 作者: 张旭东 李建功 王姝 魏玉鹏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: TbDyFe薄膜 真空热处理 磁性 结构
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 241-246
• 页数: 6页
• 分类号: TG156.95|TG132.2+7
• 字数: 4488字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.04

摘要

采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜,系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响.当热处理温度高于450℃时,薄膜中有磁致伸缩的RFe2结晶相形成.热处理使Tb0.28Dy0.72Fe2薄膜的易磁化方向从垂直于膜面向平行于膜面转变,并显著提高膜面内饱和磁化强度.450℃真空热处理60min后Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜饱和磁化强度较高、矫顽力低,更容易在低场下磁化,适于低场下作为磁致伸缩薄膜应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏玉鹏	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州大学材料科学与工程研究所	2	4	1.0	2.0
2	王姝	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州大学材料科学与工程研究所	3	18	2.0	3.0
3	张旭东	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州大学材料科学与工程研究所	11	27	3.0	5.0
4	李建功	兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州大学材料科学与工程研究所	23	127	7.0	10.0