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真空科学与技术学报

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Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

曾用名：真空科学与技术

CA CSCD JST CSTPCD

影响因子 0.3586

本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。

主办单位：

中国真空学会

ISSN：

1672-7126

CN：

11-5177/TB

出版周期：

月刊

邮编：

100022

地址：

北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

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热门刊内文献

年度刊次

1. S波段盒型输出窗击穿原因的电磁分析

作者：张兆传朱方罗积润

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 101-105

摘要：通过对实验过程中炸裂的S波段盒型输出窗观察和X射线光电子能谱检测,结合软件对窗内电磁场分布模拟以及电磁机理的理论分析,探讨高平均功率输出窗电击穿的物理原因,研究窗中高次模式电场对微波功率损耗...
2. O_2/Ar比例对直流脉冲磁控溅射制备TiO_2薄膜光催化性能的影响

作者：丁万昱张粲柴卫平王华林

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 106-110

摘要：利用直流脉冲磁控溅射方法在不同O_2/Ar比例条件下制备具有不同结构、性能的TiO_2薄膜,利用台阶仪、X射线衍射仪及紫外-可见分光光度计等仪器,对薄膜的结构、透光性能、光催化性能等进行表征...
3. 分子动力学模拟样品温度对F刻蚀SiC的影响

作者： A. Bogaerts 吕晓丹宁建平秦尤敏苟富君

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 111-115

摘要：利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响.由模拟结果可知,随着温度的升高, F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生...
4. 后栅极场发射显示板结构参数在公差范围内变化对工作特性的影响

作者：仲雪飞尹涵春张雄王保平雷威

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 116-121

摘要：后栅极场发射显示板是一种常用的场致发射器件.该器件结构由阳极、阴极和栅极组成,并且栅极置于阴极背面.本文采用模拟计算的方法研究了标准结构场发射区域内的电场分布、阴极表面的发射情况、电子轨迹和...
5. 荫罩式等离子体显示板寻址放电延迟时间的研究

作者：屠彦朱振华李青杨兰兰王保平

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 122-127

摘要：高氙浓度是提高等离体显示器亮度和发光效率的有效手段,但必须关注高氙比例对寻址放电延迟的影响.本文采用7英寸小屏实验平台研究氙比例增加对寻址放电延迟的影响,分析了氙比例增加,寻址电压和维持电压...
6. NiMnGa和NiMnFeGa单晶磁感生应变的温度依赖性及孪晶界移动的能量损耗

作者：吴振兴崔玉亭张健武亮潘复生

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 128-132

摘要：在提拉法生长出Ni_(52)Mn_(16.4)Fe_8Ga_(23.6)单晶样品的基础上,测量了其相变应变和磁感生应变.与Ni_(52)Mn_(24.5)Ga_(23.5)单晶样品的实验结果...
7. 占空比对磁控溅射纯Cr镀层微观组织结构的影响

作者：曹政李洪涛蒋百灵

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 133-137

摘要：利用磁控溅射离子镀技术于不同占空比下在单晶Si基体上制备出纯Cr镀层,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了纯Cr镀层表面和截面微观形貌、沉积速率和择优生长取向的变化规律.结果表明:占空比的...
8. Al-C-N非晶薄膜结构及导电性研究

作者：于栋利娄艳芝王燕斌罗庆洪陆永浩

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 138-143

摘要：为了揭示Al-C-N非晶薄膜的结构、导电性以及它们之间的关系,本文采用非平衡磁控溅射沉积技术在Si(100)基体上沉积得到了不同Al含量的Al-C-N薄膜.使用X射线光电子能谱仪、X射线衍射...
9. 脉冲激光沉积法在蓝宝石衬底上制备a轴取向YSZ薄膜

作者：张鹰朱俊李言荣经晶罗文博

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 144-148

摘要：采用脉冲激光沉积方法,通过金红石相TiO_2(200)纳米诱导层在蓝宝石衬底上生长了(200)取向的萤石相钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜.通过反射式高能电子衍射对薄膜生长过程进行原位监测;用XR...
10. 公-自转磁控溅射镀膜系统薄膜沉积均匀性的研究

作者：于贺吴志明王涛董翔蒋亚东陈超靖红军

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 149-153

摘要：研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理.通过物理建模,使用交点采集和时间步长划分两种模型,分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分布图,并讨论自转与公转转速比对沉积时间均匀性的影响.模拟结果表明:...
11. 荫罩式等离子体显示板条纹分布变化的研究

作者：刘德龙屠彦张雄李青杨兰兰王保平

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 154-159

摘要：采用基于粒子-蒙特卡罗模型的OOPIC-PRO软件对荫罩式等离子体显示板(PDP)的放电进行模拟,研究扫描电极宽度、氖氙混合气体比例、气压等参数变化对主放电区域及条纹分布的影响,并与高速IC...
12. 均匀介质阻挡放电处理提高聚合物薄膜表面亲水性的研究

作者：方志杨浩解向前

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 160-166

摘要：用中等气压空气中均匀介质阻挡放电(DBD)产生的低温等离子体对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和聚碳酸酯(PC)两种聚合物薄膜进行表面改性,研究了DBD等离子体处理对两种材料表面亲水性的影响.通...
13. Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi_2薄膜的研究

作者：唐正霞张娟沈鸿烈郭艳鲁林峰

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 167-170

摘要：采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]_(120)和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]_(60)多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃...
14. 掺钼氧化锌透明导电薄膜光学性质研究

作者：吴臣国杨锡良沈杰王三坡章壮健

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 171-175

摘要：采用直流磁控反应溅射制备了掺钼氧化锌透明导电薄膜.研究了掺钼氧化锌薄膜的结构、表面形貌及其光学和电学性能.原子力显微镜扫描显示薄膜表面较为平整致密.制备出的掺钼氧化锌薄膜最低电阻率为9.4×...
15. 反应磁控溅射法制备氧化铟锡钽薄膜

作者：于波张波董显平

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 176-180

摘要：利用掺锡氧化铟(ITO)靶和Ta_2O_5靶双靶共溅法制备了氧化铟锡钽(ITTO)薄膜,研究了在不同衬底温度和退火温度下ITTO薄膜的微结构和光电性能.ITTO薄膜具有更好的晶化程度和较低的...
16. FMI-I-600型钕铁硼真空速凝炉冷却强度对铸带组织的影响

作者：娄树普孙宝玉巴德纯房也王旭

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 181-184

摘要：采用Nd-Pr合金、工业硼铁、纯铁及海绵锆为原料,在不同的冷却速度下采用FMI-I-600型真空速凝炉制备Re(Nd,Pr)FeB永磁合金铸带,分析了速凝薄带的厚度分布,采用扫描电子显微镜及...
17. 氦注入铝的热解吸谱

作者：刘柯钊向鑫彭丽霞陈长安饶咏初

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 185-188

摘要：用氦热解吸谱(THDS)研究了10keV,4.0×10(60)cm~(-2)剂量He~+辐照(200)择优取向Al的氦热解吸行为及其与升温速率的关系.结果显示,He解吸开始于270℃附近,T...
18. 基于DIABEAM法的电子束能量密度测试分析

作者：付钢付鹏飞毛智勇王亚军

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 189-192

摘要：为了充分发挥电子束焊接技术在航空航天领域的作用,对反映束流品质的关键因素-电子束能量密度开展了研究;基于法拉第传感原理,通过DIABEAM测试法对真空电子束焊机电子束能量密度分布进行测试分析...
19. 玻璃钢复合材料无磁杜瓦真空性能研究

作者：杨长春武松涛潘皖江

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 193-197

摘要：讨论了玻璃钢复合材料无磁杜瓦的真空性能.提出了采用三层模式壳体结构、加热、充CO_2置换气体、放置活性炭等提高和保持杜瓦夹层真空度、减少抽空时间的方法.同时简述了影响夹层真空度测量的相关因素...
20. 真空下从铝土矿中直接提取铝的研究

作者：戴永年李秋霞杨斌

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 198-200

摘要：利用低价铝氟化物歧化反应分解可以得到金属铝的特性,用焦炭作还原剂,在真空条件下,从铝土矿中提取铝进行了实验研究.实验得到:残余压力300Pa以下时可以得到金属铝,温度在1300～1550℃范...
21. 纳米晶体Ti表面磁控溅射CN_x/SiC双层薄膜的干摩擦磨损性能

作者：卓刘成宗亮许晓静郝欣妮陈丹

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 201-204

摘要：采用室温磁控溅射技术在纳米晶体钛表面制备出CN_x/SiC双层薄膜,SiC为中间层.研究了CN_x薄膜的纳米压痕行为和摩擦磨损性能.试验结果表明:CN_x薄膜的纳米硬度、杨氏弹性模量、硬度与...
22. NEA GaAs光电阴极表面和UHV系统微颗粒污染的寻源分析与排除

作者：任兵冯刘刘晖成伟石峰程宏昌陈高善

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 205-210

摘要：借助于扫描电镜和能量分散X-ray能谱分析方法,对发生在超高真空(UHV)系统内,负电子亲和势 GaAs光阴极表面上的金属微颗粒污染物进行了分析研究.给出了存在于表面上微颗粒污染物的性质、类...
23. 氧化银薄膜的微结构对其反射率和透射率的影响

作者：冯红亮卢景霄宁皓张增院林清耿粱艳郜小勇马姣民

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 211-214

摘要：保持150℃的衬底温度不变,通过调节氧氩比 (OFR=[O_2]/[Ar]),利用直流反应磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了一系列氧化银薄膜.利用X射线衍射谱、扫描电子显微镜和分光光度计重点研究...
24. 透气真空快速泥水分离技术室内模型试验研究

作者：刘传俊吉锋周源洪鹏云陶辉

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2010年2期

页码: 215-220

摘要：透气真空快速泥水分离技术适用于高含水率高粘粒含量疏浚淤泥的堆场处理,可以快速减小堆场中淤泥的体积,加速堆场的周转利用,并能解决常规真空处理方法中存在的滤层淤堵问题.针对此技术,研制了室内模型...

真空科学与技术学报基本信息

刊名	真空科学与技术学报	主编	吴锦雷
曾用名	真空科学与技术
主办单位	中国真空学会	主管单位	中国科学技术协会
出版周期	月刊	语种	chi
ISSN	1672-7126	CN	11-5177/TB
邮编	100022	电子邮箱	vst@chinesevacuum.com
电话	010-58206280	网址
地址	北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室