占空比对磁控溅射纯Cr镀层微观组织结构的影响

• 作者: 曹政 李洪涛 蒋百灵
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 占空比 磁控溅射 微观形貌 择优取向
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 133-137
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 4152字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.02.07

摘要

利用磁控溅射离子镀技术于不同占空比下在单晶Si基体上制备出纯Cr镀层,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了纯Cr镀层表面和截面微观形貌、沉积速率和择优生长取向的变化规律.结果表明:占空比的改变显著影响着纯Cr镀层的微观形貌、择优生长取向和致密度.随着占空比的增大,纯Cr镀层的微观组织结构由柱状晶向均匀、细小纳米晶转变,纯Cr镀层的厚度和沉积速率相应增大,同时纯Cr镀层沿(110)晶面的择优生长取向程度减弱.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料学院	241	5240	40.0	64.0
2	李洪涛	西安理工大学材料学院	23	146	8.0	10.0
3	曹政	西安理工大学材料学院	12	52	5.0	6.0