Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi_2薄膜的研究

• 作者: 唐正霞 张娟 沈鸿烈 郭艳 鲁林峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: β-FeSi_2 Fe/Si多层膜 快速热退火 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 167-170
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 2729字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.02.13

摘要

采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]_(120)和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]_(60)多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s的快速热退火.为了比较,也进行了880℃,30min的常规退火.采用X射线衍射仪、原子力显微镜、光谱仪和霍尔效应仪分析了样品的晶体结构、表面形貌、光吸收特性和电学性能.结果表明:Fe/Si多层膜法合成的样品均为β-FeSi_2相且在(220)/(202)方向择优生长;经快速热退火合成的β-FeSi_2薄膜光学带隙约为0.9 eV.[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]_(60)多层膜经快速热退火合成的β-FeSi_2薄膜表面粗糙度最小,该薄膜样品为p型导电,载流子浓度为4.1×10~(17)cm~(-3),迁移率为48cm~2/V·s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
2	鲁林峰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	14	62	6.0	7.0
3	唐正霞	南京航空航天大学材料科学与技术学院	9	44	3.0	6.0
4	张娟	南京航空航天大学材料科学与技术学院	24	117	5.0	10.0
5	郭艳	南京航空航天大学材料科学与技术学院	3	15	2.0	3.0