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摘要:
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0.5μm高速BiCMOS的工艺研究
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超薄内基区
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模拟集成电路
跨导线性原理
专用集成电路
放大器
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 BiCMOS VLSI工艺进展
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 BICMOS VLSI 工艺
年,卷(期) 1991,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 10-15
页数 6页 分类号 TN470.5
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五维指标
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引文网络
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1991(0)
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研究主题发展历程
节点文献
BICMOS
VLSI
工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
总被引数(次)
1404
论文1v1指导