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上海微电子技术和应用期刊
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CMOS/BESOI器件的电离辐照特性
CMOS/BESOI器件的电离辐照特性
作者:
严荣良
高剑侠
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CMOS
BESOI
电离辐照
微电子器件
摘要:
采用亚阀Ⅰ-Ⅴ技术,分析了CMOS/BESOI器件在^60Co-γ辐照场中的电参数退化行为和机制。结果表明,器件经辐照后产生了较严重的损伤。
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文献信息
篇名
CMOS/BESOI器件的电离辐照特性
来源期刊
上海微电子技术和应用
学科
工学
关键词
CMOS
BESOI
电离辐照
微电子器件
年,卷(期)
1996,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1-3
页数
3页
分类号
TN389
字数
语种
DOI
五维指标
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引文网络
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1996(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
CMOS
BESOI
电离辐照
微电子器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海微电子技术和应用
主办单位:
出版周期:
季刊
ISSN:
1006-9453
CN:
31-1239/TN
开本:
出版地:
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
435
总下载数(次)
3
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0
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