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摘要:
采用亚阀Ⅰ-Ⅴ技术,分析了CMOS/BESOI器件在^60Co-γ辐照场中的电参数退化行为和机制。结果表明,器件经辐照后产生了较严重的损伤。
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金属-氧化物-半导体
器件尺寸
辐照效应
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 CMOS/BESOI器件的电离辐照特性
来源期刊 上海微电子技术和应用 学科 工学
关键词 CMOS BESOI 电离辐照 微电子器件
年,卷(期) 1996,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1-3
页数 3页 分类号 TN389
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1996(0)
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研究主题发展历程
节点文献
CMOS
BESOI
电离辐照
微电子器件
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海微电子技术和应用
季刊
1006-9453
31-1239/TN
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
出版文献量(篇)
435
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3
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