磁控溅射Fe-N单层膜的研究

• 作者: 乔祎 周剑平 常香荣 张永平 李华飚 田中卓 赵春生 顾有松
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 饱和磁化强度 矫顽力 磁控溅射 Fe-N膜
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: TB383|TM271+.2
• 字数: 2386字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2000.03.007

摘要

本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射,氮流量对Fe-N薄膜的磁性和结构的影响.实验表明,基片温度为200℃有助于提高Fe-N薄膜的软磁性能.基片为室温和100℃,氮流量在0～2sccm范围内变化时,未发现γ＇-Fe4N和α″-Fe16N2,薄膜中只有N在α-Fe中的固溶体.基片温度200℃,氮流量大于1.0sccm时,薄膜中出现γ′-Fe4N,但仍未发现α″-Fe16N2,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁.当氮流量是1.0sccm,温度200℃时,矫顽力达到最小值,Hc＝306.6A/m.当氮流量是0.5sccm,温度是200℃时,饱和磁化强度达到4πMs＝2.3T.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾有松	北京科技大学材料物理与化学系	32	162	7.0	10.0
2	乔祎	北京科技大学国家新金属材料重点实验室	21	137	6.0	10.0
3	张永平	北京科技大学材料物理与化学系	8	39	4.0	6.0
4	常香荣	北京科技大学材料物理与化学系	14	87	6.0	8.0
5	周剑平	北京科技大学材料物理与化学系	5	26	3.0	5.0
6	赵春生	北京科技大学材料物理与化学系	5	44	4.0	5.0
7	李华飚	北京科技大学材料物理与化学系	3	22	3.0	3.0