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N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究
N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究
作者:
任红霞
许冬岗
郝跃
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
槽栅MOSFET
热载流子效应
界面态
特性退化
摘要:
用二维器件仿真软件MEDICI模拟分析了N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管的热载流子特性及其对器件性能所造成的损伤,并与相应常规平面器件进行了比较,同时用器件内部物理量的分布对造成两种结构器件特性不同的原因进行了解释.结果表明槽栅器件对热载流子效应有明显的抑制作用,但槽栅器件对热载流子损伤的反应较平面器件敏感.
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文献信息
篇名
N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
槽栅MOSFET
热载流子效应
界面态
特性退化
年,卷(期)
2000,(7)
所属期刊栏目
总论
研究方向
页码范围
1241-1248
页数
8页
分类号
O4
字数
5722字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝跃
西安电子科技大学微电子研究所
312
1866
17.0
25.0
2
任红霞
西安电子科技大学微电子研究所
21
53
4.0
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许冬岗
西安电子科技大学微电子研究所
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槽栅MOSFET
热载流子效应
界面态
特性退化
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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