热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响

• 作者: 关艳霞 孙承松 温作晓
• 来源期刊: 仪表技术与传感器
• 关键词: InSb薄膜 热处理 工艺
• 年，卷（期）: 2000,（9）
• 所属期刊栏目: 仪器与仪表
• 页码范围: 15-16
• 页数: 2页
• 字数: 2095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1841.2000.09.006

摘要

文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响，通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降温速率。最后讨论了热处理过程中所采用的3种保护膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙承松	沈阳工业大学信息学院	17	134	6.0	11.0
2	关艳霞	沈阳工业大学信息学院	35	79	5.0	7.0
3	温作晓	沈阳工业大学信息学院	1	5	1.0	1.0