ZnO:Al薄膜的组织结构与性能

• 作者: 孙超 杜昊 裴志亮 谭明晖 闻立时 陈猛 黄荣芳
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 温度 光学吸收边 透射率
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 538-542
• 页数: 5页
• 分类号: TB383
• 字数: 1621字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2000.05.018

摘要

用直流磁控反应溅射合金靶制备了ZnO薄膜,研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响.衬底温度升高能改善薄膜的电学特性,其原因是薄膜晶粒尺寸的增大.温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动,但对高透射区(450～850nm)的透射率影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
2	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
3	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
4	裴志亮	中国科学院金属研究所	19	425	12.0	19.0
5	杜昊	中国科学院金属研究所	24	169	8.0	11.0
6	陈猛	中国科学院金属研究所	19	341	8.0	18.0
7	谭明晖	中国科学院金属研究所	6	132	6.0	6.0