BCN薄膜的射频反应溅射法制备与结构特性

• 作者: 岳金顺 程文娟 蒋钢娟 贺德衍 陈光华
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 关键词: BCN薄膜 射频反应溅射 结构和电学特性
• 年，卷（期）: 2000,（z2）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料
• 页码范围: 650-652
• 页数: 3页
• 字数: 2150字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.029

摘要

本文研究以六方BN为靶材,CH4为反应气体,利用射频溅射技术制备BCN三元化合物薄膜.样品的结构由X射线衍射谱、傅立叶变换红外吸收谱和X射线光电子能谱等方法进行表征.实验结果表明样品是具有类石墨涡旋蜂窝状结构的BCN三元化合物.通过改变CH4分压,能够控制薄膜中的C含量:随CH4分压的增高,薄膜中C含量增大,电导率也显著增大.当CH4分压比在10%附近时,样品呈现半导体特性,由电导率-温度关系曲线求得电导激活能约为0.8eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理系	68	559	13.0	19.0
2	陈光华	北京工业大学应用物理系	65	396	11.0	16.0
3	程文娟	兰州大学物理系	7	9	1.0	2.0
4	岳金顺	兰州大学物理系	2	7	1.0	2.0
5	蒋钢娟	兰州大学物理系	1	1	1.0	1.0