微波退火法低温制备多晶硅薄膜晶体管

• 作者: 孙国才 徐重阳 曾祥斌 饶瑞
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 微波退火 低温晶化 多晶硅薄膜晶体管
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 单晶.薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 299-301
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2001.04.016

摘要

多晶硅薄膜晶体管以其独特的优点在液晶显示领域中有着重要位置.为了满足在普通玻璃衬底上制备多晶硅薄膜晶体管有源矩阵液晶显示器,低温制备(小于600°C)高质量多晶硅薄膜已成为研究热点.文章利用微波加热技术,采用非晶硅薄膜微波退火固相晶化法低温制备出多晶硅薄膜晶体管,研究了微波退火工艺对多晶硅薄膜晶体管电学性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	饶瑞	华中科技大学电子科学与技术系	9	64	6.0	8.0
2	徐重阳	华中科技大学电子科学与技术系	85	592	12.0	19.0
3	曾祥斌	华中科技大学电子科学与技术系	45	285	10.0	14.0
4	孙国才	华中科技大学电子科学与技术系	4	34	3.0	4.0