Ni/Pd/Si固相反应及NiSi热稳定性增强研究

• 作者: C.Detavernier R.Van Meirhaeghe 屈新萍 李炳宗 茹国平
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: NiSi 成核 固熔体 热稳定性
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1173-1177
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.54
• 字数: 3615字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.11.009

摘要

研究了Ni/Pd双层薄膜在硅衬底上的硅化物形成过程.结果表明,加入Pd层后,退火形成Ni1-xPdxSi固熔体,该固熔体比NiSi的热稳定性好,使得NiSi向NiSi2的转变温度升高.加入Pd的量越多,NiSi2的成核温度越高,并用经典成核理论解释了该现象.