退火对ZnO薄膜结构及发光特性的影响

• 作者: Cao Hui CHANG R P H Liu Xiang Xu Junying 姜秀英 杜国同 杨树人 王新强 王金忠 闫玮 马燕 高鼎三
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体金属有机物化学汽相淀积 半高宽 光致发光光谱
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 178-180
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 1051字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2002.02.012

摘要

生长在蓝宝石C面上的ZnO薄膜是通过等离子体金属有机物化学汽相淀积方法获得的,由其X光衍射得知,生长过程中分段退火和最后退火在薄膜中分别引入了张应力和压应力.通过对样品光致发光光谱研究表明:分段退火样品在380 nm附近出现了单一激子发射峰,而最后退火样品却出现了与应变有关的Γ5和Γ6两激子发射峰,同时在两者的光致发光光谱中与深能级有关的荧光峰都未出现.