磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究

• 作者: 万红 刘吉燕 斯永敏 赵恂 邱轶
• 来源期刊: 国防科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 SmCo薄膜 工艺参数 磁化
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 航天工程·材料工程
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: TM27
• 字数: 2930字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2486.2003.05.007

摘要

用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律.研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小.X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物.磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万红	国防科技大学航天与材料工程学院	17	230	11.0	15.0
2	斯永敏	国防科技大学航天与材料工程学院	28	191	10.0	12.0
3	赵恂	国防科技大学航天与材料工程学院	22	470	12.0	21.0
4	邱轶	国防科技大学航天与材料工程学院	3	35	3.0	3.0
5	刘吉燕	国防科技大学航天与材料工程学院	1	11	1.0	1.0