SmCo薄膜的溅射法制备及其磁性能研究

• 作者: 杨国海 黄致新
• 来源期刊: 华中师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: SmCo薄膜 磁控溅射 矫顽力
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 279-282
• 分类号: O482.4
• 字数: 2449字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1190.2012.03.006

摘要

采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜,并重点研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响,结果发现,当磁性层溅射功率为60 W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为8 min,且底层溅射功率为125 W,溅射气压为0.5 Pa,溅射时间为4 min时,薄膜的矫顽力高达3500 Oe.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄致新	华中师范大学物理科学与技术学院	104	350	10.0	14.0
2	杨国海	湖北文理学院物理与电子工程学院	11	21	1.0	4.0