磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究

• 作者: 常天海
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 陶瓷靶 氧化铟锡 XPS AFM
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 98-101
• 页数: 4页
• 分类号: TN305|TB43
• 字数: 2693字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2003.02.007

摘要

研究了磁控溅射陶瓷靶制备的氧化铟锡薄膜的微观结构和光电性能;给出了它的XPS、AFM分光光度计测试结果.结果表明:氧化铟锡膜内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85.0%左右;薄膜表面十分致密,呈多晶球状微粒均匀分布,平均粒径为50 nm;可见波段光透过率全部超过80%,近红外反射率也较高,在2 500 nm处达到70%,电阻率为2.7×10-4Ω·cm,禁带宽度Eg≥3.35 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常天海	华南理工大学电信学院	67	317	10.0	14.0