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解读ITRS 2002 Lithography
解读ITRS 2002 Lithography
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篇名
解读ITRS 2002 Lithography
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
年,卷(期)
2004,(3)
所属期刊栏目
光刻技术
研究方向
页码范围
16-21
页数
6页
分类号
TN3
字数
5368字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-4507.2004.03.007
五维指标
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电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
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总被引数(次)
10002
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