N2分压对磁控溅射NbN薄膜微结构与力学性能的影响

• 作者: 李戈扬 田家万 胡晓萍 韩增虎 顾明元
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: NbN薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 数学、物理
• 页码范围: 120-124
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2285字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.2004.01.029

摘要

采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列NbN薄膜.用XRD和TEM表征了薄膜的相组成和微观结构,力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量,AFM观察了薄膜的表面形貌并测量了压痕尺寸以校验硬度值的准确性.研究了氮分压对薄膜相组成、微结构和力学性能的影响.结果表明,氮分压对薄膜的沉积速率、相组成、硬度和弹性模量均有明显的影响:低氮分压下,薄膜的沉积速率较高,制备的薄膜样品为六方β-Nb2N和立方δ-NbN两相结构;随氮分压的升高,薄膜形成δ-NbN单相组织,相应地,薄膜获得最高的硬度(36.6 GPa)和弹性模量(457 GPa);进一步升高氮分压,获得的薄膜为δ-NbN和六方ε-NbN的两相组织,其硬度和模量亦有所降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾明元	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	82	1649	22.0	37.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	韩增虎	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	14	167	7.0	12.0
4	胡晓萍	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	11	138	7.0	11.0
5	田家万	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	15	170	7.0	12.0